氮化铝薄膜的组成分析.pdfVIP

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2017-09-13 发布于重庆
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氮化铝薄膜的组成分析.pdf

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第 18 卷第 3 期应用化学 V o l. 18 N o. 3 2001 年 3 月　　　　　CH IN ESE JOU RNAL O F A PPL IED CH EM ISTR Y　　　　　 M ar. 2001 氮化铝薄膜的组成分析 a , b a a a b 许小红　武海顺　张富强　张聪杰　金志浩 (a 山西师范大学化学系　临汾 041004; b 西安交通大学材料科学与工程学院　西安) 关键词　氮化铝薄膜, 组成, X 射线光电子能谱中图分类号: O 653; TB 43　　　　　文献标识码:A 　　　　　文章编号:(2001) 　　是一种无机非铁性压电材料, 具有宽的 11, 膜层中的原子浓度低于 5% , 达到表声波 A lN O 带隙、高的电阻率、高的抗击穿电压、高的声传播器件对A lN 薄膜组成的要求. 速率和低的传输损耗, 在微电子器件中有着广泛采用型射线光电子能 M ICROLABM K X [ 1 ] - 7 的应用前景 . 由于A lN 薄膜的声速在整个无机谱仪, 电子能谱仪分析室真空度为 5 ×10 Pa , 非铁性材料中最高, 因而成为级声表面波器射线光源为 , 能量 = 1253 6 . 为了 GH z X M gK h eV [ 2 ] 件的首选材料 . 要实现A lN 薄膜的表面声波器消除荷电效应, 对每个 XPS 图谱用C 1s 外标法进 [ 1 ] [ 3 ] [ 7 ] + 件应用, 不但结构重要 , 组成也很重要 , 因为行谱线能量校正 . 采用 A r 离子枪在 1 × 薄膜的组成对其性质影响很大. A lN 压电薄膜要 - 4 10 Pa 的A r 气氛下, 以剥蚀电压为 3