基于FPGA 的新型非对称双极脉冲磁控溅射电源的研究.pdfVIP

２１６ 　西安理工大学学报 ＪｏｕｒｎａｌｏｆＸｉ’ａｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（２０１３）Ｖｏｌ．２９Ｎｏ．２　 　　文章编号：１００６４７１０（２０１３）０２０２１６０５ 基于ＦＰＧＡ的新型非对称 双极脉冲磁控溅射电源的研究 陈桂涛，孙天乐，孙强，钟彦儒 （西安理工大学 自动化与信息工程学院，陕西 西安　７１００４８） 摘要：研究了基于ＦＰＧＡ的非对称双极脉冲电源，解决了磁控溅射工艺中遇到的共性问题，同时获 得了优异的膜层性能和更宽的工艺范围。可以根据磁控溅射电源工艺需求对双向脉冲参数包括脉 冲幅值、频率、占空比，以及正负向个数和正向脉冲与负向脉冲之间的换向时间等自由调节。最后 设计了一个６ｋＷ／１００ｋＨｚ样机，前级采用两个独立的ＤＣ／ＤＣ变换器作为直流源，后级为一个非对 称脉冲发生器。采用Ａｌｔｅｒａ公司的ＦＰＧＡ（ＥＰ３Ｃ２５Ｑ２４０Ｃ８）作为数字处理器实现了电源的数字控 制，同时对后级脉冲变换环节实现高自由度控制，通过实验结果分析进一步验证了设计的可行性。 关键词：脉冲电源；非对称；磁控溅射；高自由度 中图分类号：ＴＰ３１３　　　文献标志码：Ａ ＲｅｓｅａｒｃｈｏｎＮｏｖｅｌＰｕｌｓｅｄＰｏｗｅｒＢａｓｅｄｏｎＦＰＧＡｆｏｒＭａｇｎｅｔｒｏｎＳｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ＣＨＥＮＧｕｉｔａｏ，ＳＵＮＴｉａｎｌｅ，ＳＵＮＱｉａｎｇ，ＺＨＯＮＧＹａｎｒｕ （ＦａｃｕｌｔｙｏｆＡｕｔｏｍａｔｉｏｎａｎｄＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，Ｘｉ’ａｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｘｉ’ａｎ７１００４８，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｉｎｔｈｉｓｐａｐｅｒ，ｒｅｓｅａｒｃｈｏｎａｓｙｍｍｅｔｒｉｃｂｉｐｏｌａｒｐｕｌｓｅｄｐｏｗｅｒｓｕｐｐｌｙｂａｓｅｄｏｎＦＰＧＡｈａｓｂｅｅｎ ｍａｄｅｔｏｒｅｓｏｌｖｅｓｏｍｅｃｏｍｍｏｎｐｒｏｂｌｅｍｓｅｎｃｏｕｎｔｅｒｅｄｉｎＭａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｐｒｏｃｅｓｓａｎｄｔｏｒｅａｌｉｚｅｅｘｃｅｌ ｌｅｎｔｆｉｌｍｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅａｎｄａｗｉｄｅｒｒａｎｇｅｏｆｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ．Ｐｕｌｓｅｐａｒａｍｅｔｅｒｓｏｆｔｈｅｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｐｏｗ ｅｒｃａｎｂｅａｄｊｕｓｔｅｄｆｒｅｅｌｙａｃｃｏｒｄｉｎｇｔｏｔｈｅｄｅｍａｎｄｓｉｎｃｌｕｄｉｎｇｐｕｌｓｅａｍｐｌｉｔｕｄｅ，ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ，ｄｕｔｙｃｙｃｌｅ， ａｎｄｅｖｅｎｔｈｅｎｕｍｂｅｒａｎｄｔｈｅｐｏｓｉｔｉｖｅａｎｄｔｈｅｎｅｇａｔｉｖｅｐｕｌｓｅｓｏｆｔｒａｎｓｉｔｉｏｎｔｉｍｅｂｅｔｗｅｅｎｐｕｌｓｅ．Ｔｈｅｎ，ａ６ ｋＷ／１００ｋＨｚｐｒｏｔｏｔｙｐｅｉｓｄｅｓｉｇｎｅｄｗｈｉｃｈａｄｏｐｔｓｔｗｏｓｔａｇｅｓｔｒｕｃｔｕｒｅ，ｔｈｅｆｉｒｓｔｓｅｃｔｉｏｎｕｔｉｌｉｚｉｎｇｔｗｏｉｎｄｅ ｐｅｎｄｅｎｔＤＣ／ＤＣｃｏｎｖｅｒｔｅｒａｓａＤＣｓｏｕｒｃｅ，ｔｈｅｓｕｂｓｅｑｕｅｎｔｓｔａｇｅａｓａｎｏｎｓｙｍｍｅｔｒｉｃａｌｐｕｌｓｅｇｅｎｅｒａｔｏｒ． ＦＰＧＡ（ＥＰ３Ｃ２５Ｑ２４０Ｃ８）ｏｆＡｌｔｅｒａｉｓｕｓｅｄａｓａｄｉｇｉｔａｌｐｒｏｃｅｓｓｏｒｔｏｉｍｐｌｅｍｅｎｔｔｈｅｄｉｇｉｔａｌｃｏｎｔｒｏｌｏｆｃｕｒ ｒｅｎｔｓｏｕｒｃｅ，ａｓｗｅｌｌａｓｔｏａｃｈｉｅｖｅａｈｉｇｈｄｅｇｒｅｅｏｆｆｒｅｅｄｏｍｃｏｎｔｒｏｌｏｎｔｈｅｐｕｌｓｅｃｏｎｖｅｒｔｅｒ．Ｆｉｎａｌｌｙ，ｔｈｅａ ｎａｌｙｓｉｓｏｆｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌｒｅｓｕｌｔｓｈａｓｆｕｒｔｈｅｒｔｅｓｔｅｄｔｈｅｆｅａｓｉｂｉｌｉｔｙｏｆｔｈｅｄｅｓｉｇｎ． Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｐｕｌｓｅｐｏｗｅｒ；ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ；ｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ；ｈｉｇｈｄｅｇｒｅｅｏｆｆｒｅｅｄｏｍ 　　磁控溅射法是一种物理气相沉积的方法，广泛 非对称脉冲是指脉冲波形是独立的，即正向脉 应用于薄膜技术。在过去的几年里，人们对使用脉 冲和负向脉冲参数是单独可控的。换言之，是指在 冲电源改善磁控溅射效果给予了极大的关注