半导体界统计和R应用.pptVIP

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
半导体界统计和R的应用 中芯国际 -良率管理系统 2008-12-13 Content Integrated Circuit (IC) Manufacturing Semiconductor Data Flow Statisticians at SMIC R Usage at SMIC 1、线性模型/非线性模型/广义线性模型 Linear model for inline monitor Basic mixed effect model applied to semiconductor data Various correlation analyses 2、统计图形:阐述清楚统计原理与图形元素的对应关系 Useful and interesting plots: histogram w/ splits, plot w/ table (Excel like), wafer map (3-D) 3、非参数统计:各种基于秩的检验以及光滑方法 Smooth spline usage, EWMA Control Chart 5、多元统计:一方面展示已有方法的应用,如主成分、聚类等,另一方面体现出R在矩阵运算方面的简便 Wafer pattern classification: clustering analysis 7、数据挖掘和机器学习: Logistic回归、kNN、以及神经网络、SVM等 Logistic regression application 9、程序接口:C/Fortran/C++/Java等或者R (D)COM、Rserve Python / VB / Delphi / mySQL linking with R R (D)COM under study Climb the Mountain Peak of R, Fighting !!! Linear Model for Inline Monitor WAT Uniformity Analysis (Mixed Effects Model Example) WAT Uniformity Analysis Example Result Other Correlation Analyses Equipment Comparison Interesting Plot 1 Interesting Plot 2 Smooth Spline Usage Split control limit Smooth spline simulates the data for reducing noise EWMA Control Chart The Purpose of EWMA Control Chart: Detect data trend shift ; Reduce SPC X-bar charts excursion false alarm rate. Cluster Analysis Illustrations for Single Wafer Analysis Procedure Interface / Data Preparation Background R Usage at SMIC CD SEM Overlay Macro CD SEM Films Stepper / Track Etch Etcher 5XXX 8XXX ASET-F5 2401 Hitachi Films Dep 2. IC Manufacturing 1. IC Design N-Well P-Well P+ P+ N+ N+ Metal 1 3. Fabricated Wafers WAT FT WS/CP WIP (MES, iEMS) Wafer start Fab out Continually Defect inspection and review: inspection tool KLA,compass) review tool: SEM Leica(OM) Continually ADI, AEI, CD,etc measurement called metrology (MES) MET Defect (KLARF) WIP EQ log data Test data Process data Also reliability, memory bit, QC and other data Reliability Analysis Quality Control Price Time to Market Original Yield Ramp Our

文档评论(0)

天马行空 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档