1064nm激光多脉冲下Hf02／Si02高反膜损伤规律.pdfVIP

第41卷第5期 红外与激光工程 2012年 5月 Vo1．41NO．5 Infrared and LaserEngineering M av．2012 1064nm激光多脉冲下 HfO2／SiO2高反膜损伤规律 刘志超 ，陈松林，罗 晋，潘 峰，李树刚 (成都精密光学工程研究中心，四川 成都 610041) 摘 要 ：利用小口径元件损伤测试平台对 HfO。／SiO。高反膜的 l064nm激光多脉冲损伤规律进行 了 研究。研究结果表明：多脉冲作用下HfO ／SiO 高反膜损伤在形态上主要分为色斑和层裂两类，在一定 条件的多发次脉冲作用下，色斑损伤存在向层裂损伤转换的趋势 ；层裂损伤尺寸随脉冲发次呈指数递 增后趋于极大值的变化规律 ，且终态尺寸与辐照激光能量密度呈近似线性关系；色斑S—on一1损伤 阈 值与脉冲发次关系不明显 ，而层裂 S—on—l损伤阈值随脉冲发次增加呈指数衰减后趋于极小值的变 化规律。采用衰减公式拟合手段 ，对元件抗损伤能力退化规律进行 了初步的定量分析。 关键词 ：损伤形 态； 损伤增长 ； S—on—l损伤测试 ； 抗损伤能力 中图分类号 ：0437 文献标志码：A 文章编号：1007—2276(2012)05一ll91—04 StudiesofmultipulselaserinduceddamageofHfOgSiO2 multilayerat1064am Liu Zhichao，Chen Songlin，LuoJin，PanFeng，LiShugang (FineOpticalEngineeringResearchCenter，Chengdu610041，China) Abstracts：Multipulselaserinduceddamagepropertiesofthehafnia-silicamirrorwere studiedby hteuse ofsmallopticdamagetestfacility．Theresultsofhtetestindicate thathterearetwo commonlydamage morphologies at vacuum， scalds and delaminates，and hte scaldswill expand to delaminates under multipulsewiht a certain fluence．The lateralsize oflayerdelamination shows an exponentialgrowht behaviorwiht hteinitialshotsand finallytendsto bestable．Thefinalsize ofdelarninateafter500shots hasalinera function ofhtelaserfluence．Theexperimentresultalsoindicateshtatscaldsanddelaminates have distinctgrowth behaviorsna d influence thevalue ofS—on-1 damage threshold differently．Scalds has a lowerS-on-1 dma age threshold which is stable as hte shotnumber．In contrast，delaminates multipulsedamagethreshold showsan exponential in hte much higheronsetfluencewith na asymptotic behaviorappraentlyatlrageshotnumbers．Finally a simplefunction forfitt