磁控溅射氧化钒薄膜的相组成及性能.pdfVIP

第 18卷第 l2期 中国有色金属学报 2008年 12月 Vb】．18NO．12 TheChineseJournalofN0~rrousM etals Dec．2008 文章编号：1004．0609(2008)12．．2196．06 磁控溅射氧化钒薄膜的相组成及性能 陈 爽 ，一，余志明 ，2 刘凤举 一，方 梅 ， (1．中南大学 材料科学与工程学院，长沙4100831 2．有色金属材料科学与工程教育部重点实验室，长沙410083) 摘 要：采用反应磁控溅射法在玻璃基底上沉积氧化钒薄膜，分别利用x射线衍射 ~X《RO)、原子力显微镜(AFMI) 和红外光谱仪分析样品的物相、表面形貌和红外光透过率。结果表明：氧气体积分数低于 15％时，薄膜为低价钒 氧化物，高于20％时薄膜为V2O5；氧气体积分数等于 15％时，溅射功率由150W增加到200W，薄膜中钒的价 态变低；当溅射功率为250W 时，薄膜物相变成VO2。随着沉积时间从30min增加到60min，原子力显微分析 显示VO2颗粒尺寸从约200nlTl增加到400nlTl；红外光透过率范围从55％、45％减小到45％～55％。 关键词：氧化钒；反应磁控溅射；红外透过率 中图分类号：TG43 文献标识码：A PhasecompositionsandpropertyofVOxthinfilmsby magnetronsputtering CHENShuang，YUZhi-ming,LIUFeng-ju，FANGMei (1．SchoolofMaterialsScienceandEngineering，CentralSouthUniversity,Changsha410083，China； 2．KeyLaboratoryforNonferrousMaterialsScienceandEngineeringofMinistryofEducation，Changsba410083，China) Abstract：Vq thin flimswereproduced on htesubstratesofglassbyreactivemagnetron sputtering．Thephases， morphologyandnifraredtransmittanceweredetectedbyX ·raydiffractometer,atomicforcemicroscopyandinfrared spectrometer,respectively．Theresultsshowthat，undertheoxygenvolumerfaction妒(O2)oflessthan15％，thefilmsare vanadiumoxideswihtlow—valences．When (02)ismorethan20％，htefilmsareV205．With~0(02)of15％，theaverage valenceofvanadium becomeslowerafterthesputteringpowerincreasingfrom 150W to200W andhtefilmschangeto vo2wiht htesputteringpowerof250W Whilehte sputteringtimeincreasesfrom 30min to 60min．hteinrfared transmittanceofhteV02filmsdecreasesfrom 55％——65％ to45％—_-55％ andthesizeofgrainsincreasesrfom about200 nrrlto