厚度对L1_0-FePt薄膜的结构和磁性的影响.pdfVIP

2010年 11月 吉林师范大学学报(自然科学版) No．4 第 4期 JournalofJilinNormalUnive~ity(NaturalScienceEdition) NOV．2010 厚度对 L1o—FePt薄膜 的结构和磁性的影响 张玉梅 ，刘 梅 ，陈芳慧，李海波 (吉林师范大学 凝聚态物理与材料科学研究所，吉林 四平 136000) 摘 要：采用磁控溅射法在Si0001基片上制备TFePt薄膜，薄膜样品经过650℃热处理 1h．利用x射线衍 射仪和振动样品磁强计对样品的结构和磁性进行丁测量和分析 ．结果表明，样品经过 650℃热处理后均形成了 有序面心四方结构的 L1一FePt相．当FePt薄膜厚度达到20nm时，样品平行膜面和垂直膜面的矫顽力最大，分别 是 9．2和 8．0kOe．随着厚度 的增加 ，样 品平均 晶粒度增大，平行膜面和垂直膜面的矫顽力均呈现减小趋势． 关键词：磁控溅射；L1n—FePt薄膜；厚度；结构；磁性 中图分类号：0484．43 文献标识码 ：A 文章编号：1674—3873一(2010)04—0071—03 中热处理 1h，热处理时真空优于 8．0X10I4Pa． 0 引言 利用 RigakuZSXPfimusⅡ型x射线荧光光谱仪 L1FePt薄膜 由于具有高的各 向异性能 (大于 上测定样品中Fe、PI的成分为 Fe~Pt46．利用 Rigaku 7×10erg／em3)、约为3FIITI的室温超顺磁临界尺寸 、 D／max2500PC型x射线衍射仪分析样 品的晶体结 超过 100kOe的矫顽力以及 良好 的化学稳定性 ，成 构 ，cu—Kn辐射 ，石墨 晶体单色器 ，电压 4OkV，电流 为下一代超高密度磁记录介质的首选材料，引起 了 300n1A，扫描步长为 0．02。．薄膜 的磁滞 回线利用 众多研究者的重视_1J．室温下制备的FePt薄膜为 LakeShore7407型振动样 品磁强计测量 ，最大磁场 无序的面心立方结构 (fcc)，通过基片加热或较高温 为 21kOe． 度(550℃以上 )热处理形成有序 的面心 四方结构 2 实验结果与分析 (t)．本文采用磁控溅射法在室温下制备了不同厚 度的 FePt薄膜 ，将薄膜样 品在 真空退火炉 中于 2．1 小角 X射线镜面散射结果分析 650qC进行热处理 ，研究了薄膜厚度对样 品结构和 图1给出了Pt单层膜的溅射功率 15w，溅射时 磁性的影响 ． 间300S的0-20扫描及 Fe单层膜 的溅射功率与厚 度的关系曲线．利用公式 1 实验 d=—2(—sin0 — — 利用 ATC1800一F型多靶磁控溅射系统 ，采用直 l—sin02) 2(0l一02) 流共溅射 制备 FePt溥膜 ，靶材 、Pt的纯 度为 计算 出溅射功率是 15w，溅射时间为 300s的 99．95％，基片为 Si020001，基片温度为室温 ．沉 条件下 Pt单层膜的厚度 ，从而得出溅射速率 0．04 积薄膜前，衬底分别在丙酮 、乙醇及去离子水中超声 nm／s，式中 d代表薄膜厚度 ， 是 x射线波长 ，0为 清洗 ，干燥后送入真空室．薄膜沉积前，溅射系统的 衍射角．同样方法计算出在 固定时间内不同溅射功 本底真空优于 1．6×10～Pa，溅射时Ar气 的工作气 率制备的单层 Fe薄膜 的厚度 ，拟合出 Fe单层膜的 压为 0．67Pa．通过改变 Fe和 Pt靶 的溅射功率来调 的溅射功率随厚度变化 的公式 ，Y一 1．69643+ 节薄膜样品成分，薄膜厚度 由溅射时问控制，利用 x 2．225X，式 中 代表溅射