电子束蒸发法制备MoO3薄膜及其性质研究.pdfVIP

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2017-09-12 发布于重庆
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电子束蒸发法制备MoO3薄膜及其性质研究.pdf

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第40 卷第6 期电子科技大学学报 Vol.40 No.6 20 11年11月 Journal of University of Electronic Science and Technology of China Nov. 20 11 ·电子信息材料与器件· 电子束蒸发法制备MoO 薄膜及其性质研究 3 魏昭荣，杨定宇，朱兴华，杨维清 (成都信息工程学院光电技术学院成都 610225) 【摘要】采用电子束蒸发法在玻璃衬底上制备MoO 薄膜。X射线衍射谱表明制备样品属于正交晶系，沿010晶向择优 3 取向生长。随着衬底温度的升高，样品的晶粒尺寸先增大后减小，退火后又增大。此外，样品的(040)衍射峰随衬底温度升高单调向低衍射角方向移动。扫描电镜照片显示制备样品具有针状晶粒特征，退火后晶粒大小的分布趋于均匀。紫外–可见透过谱测试发现，随衬底温度的升高，一方面样品的光吸收边向长波方向移动，透过率降低；另一方面，样品的光学带隙由100 ℃ 时的2.93 eV降为300 ℃时的2.59 eV ，经过500 ℃大气氛围下退火后，光学带隙减小至2.46 eV。关键词晶体结构; 电子束蒸发; MoO 薄膜; 表面形貌; 紫外–可见透过谱 3 中图分类号 TB34 文献标识码 A doi:10.3969/j.issn.1001-0548.2011.06.024 Properties of MoO3 Films Deposited by Electron Beam Evaporation WEI Zhao-rong, YANG Ding-yu, ZHU Xing-hua, and YANG Wei-qing (School of Optoelectronic Technology, Chengdu University of Information Technology Chengdu 610225) Abstract MoO3 films were deposited on glass substrates by electron beam evaporation method. X-ray diffraction patterns revealed that the prepared samples presented orthorhombic structure with preferred orientation of 010. As substrate temperature increased, the grain size increases firstly then decreases, but increases once more after annealing. Moreover, the diffraction peak of (040) plane shifts to lower angle monotonically with increased substrate temperature. Scanning electron microscope images show