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LED专题 LED ColumnLED Column 大尺寸 MOCVD 反应器中热流场的优化 Chih-Kai Hu、Tomi T.Li、Yi-Jiun Lin，Department of Mechanical Engineering, National Central University 属 有 机 化 学 汽 相 淀 积 闭空间 MOCVD 反应器。建模用的 口处的流动是充分开展的。对于基 金（MOCVD）是制造发光二 密闭空间反应器示于图 1。图 1(a)、 座和顶板（包括侧壁）假定速度为 极管和激光二极管一类化 1(b)、1(c) 是反应器的几何结构及网 零、温度恒定、组分梯度为零。基座 合物半导体器件的关键工艺。先进的 格情况。在加工过程中，反应物蒸汽 温度维持在 1100℃，而由于用水冷 计算流体动力学（CFD）模拟现已 从喷淋头的顶部进入腔室，垂直向下 却，所有其他侧壁温度假设为 50℃， 成为 MOCVD 立式密闭空间反应器 流入反应器。撞击基座表面时，反应 工作压力设定在 100-760torr。前驱 设计和性能优化最重要的工具之一。 物转 90°向水平方向，然后沿径向 体 TMG 和 NH 通过入口喷入反应 3 密闭空间反应器（如任何形式 在基座上方向外，最后到出口排出。 器中，而用 H 和 N 作为载流气体。 2 2 的转盘反应器（RDR））涉及由浮力 MOCVD反应器的腔室尺寸。(c) NH 、N 、TMG 和 H 的流量分别 3 2 2 （自然对流）、晶圆载体旋转和强制对 网 格 形 Aixtron Crius I MOCVD 是30slm, 0slm, 0.235slm。基座旋 流间相互作用引起的复杂流动力学。 反应器每一区域的名称。 转速率设定为100rpm。 这是最近 20 年来广泛深入的理论和 建模的假设 采 用 商 用 流 体 动 力 学 软 件 实验研究目标。立式转盘反应器的流 本研究中的假设为：（1）气体 FLUENT 进行模拟，它是用有限元 体动力学也是众多数值模拟和流场 的混合处理为连续的；（2）认为是 法解流体基本方程。 可视化研究的课题。流体流动特性是 稳态；（3）假定是2维轴对称的；（4） 控制方程 由与注入的载体气体有关的强制对 假定基座和壁的温度为常数（5）壁 本研究中开发的动态 MOCVD 流、与加热底板和载体气体间的温 之间的热辐射忽略不计；（6）反应 模型，是基于反应器中气体混合物的 差有关的自然对流及与盘旋转相关 器壁上没有滑移情况；（7）化学反 质量连续性、动量、热量、质量传递 的压力梯度之间的相互作用决定的。 应忽略不计；（8）包含热扩散；（9） 和其他量的基本方程。这些沿立式反 已经确定了有下列 3 种主要流动状 假定气体行为是理想的。 应器的 2 维（2D）、与时间相关的守 态：(a) 强制对流主导的流动，此时， 边界条件和初始条件 恒方程结合在一起形成一组偏微分 气体在基板上方流过，反应器中没 边界条件说明如下。质量流率 方程：它们描述了具有期望性质的理 有任何回流，(b) 自然对流主导的流