金属陶瓷多弧离子镀TiNTiAlN涂层的结构与性能.pdfVIP

第36卷 增刊2 稀有金属材料与工程 v01．36，Su即12 2007年 8月 RAI江METALMATERLALSANDENG眦ERING 2007 A岵um 郑立允1，一，熊惟皓2，王玉果3，赵立新1 (1．河北工程大学，河北邯郸056038) (2华中科技大学．湖北武汉430074) (3．天律大学，天津300072) 射仪、原子力显微镜等分析技术对其显微组织、成分、相结构、粗糙度及涂层与基体间的结合强度进行了分析。结果 6 表明，多弧离子镀”N，r认lN涂层后试样的表面为金黄色，涂层光滑平整，其均方根粗糙度为20nm，显微硬度达到 TiN，r认lN涂层与金属陶瓷之间的结合强度高选57．52N。 关键词：金属陶瓷；多弧离子镀；涂层；梯度 148 中围法分类号：TG 文献标识码：A 文章编号：1002-185x(2007)s2—718—03 1 引 言 数，下同)，经过球磨混料一烘干一加成型剂一压制成型 TjN硬质薄膜表层具肓高耐磨性和低摩擦系数， 一脱除成型别一真空烧结后，试样在万能T具磨床上用 这对于提高刀具的寿命具有菲常雨噩的意义。但是， 金刚石砂轮磨削成平而，然后用金相水砂纸磨屑、抛光。 在500℃以上时TiN涂层就倾向十氧化分解，涂层的 保护作用剧烈地减少llj。TiAlN薄膜具有28GPa的显微 硬度，其工作温度可以达到800℃。所以，TiAlN涂Ti，A1含茸均为50％。 层的刀具可用于高速切削、干切削，以及一些难加工 2，2镀层的制备工艺 材料。K丑otek等在1985年首次发表了关于TiAlN涂层的采用多弧离子镀技术制备TiN厂riAlN膜。沉积设 研究后，其优异的抗高温氧化能力和良好的使用性能 备为14弧源多弧离子镀膜机，其中纯Ti靶6个，含 引起了人们极大的关注，已经用多种PvD方法成功制 Ti，Al各50％的TiAl靶8个。 各了该膜【23】。侯晏红等【41在5crNiMo热作模具钢基体镀层制各的整个工艺流程为：试样镀层制各前的 上沉积了Ti—A1-N系功能梯度薄膜。张德元等[q在高速 检查一在三氯乙烯中超生波清洗一汽油清洗(两次)一 钢基体上采用多弧离子镀技术制备了TiAlN薄膜。 水洗一酸洗一乙醇清洗一烘干一装炉一离子轰击清洗 尽管人们采用各种技术制备并研究TiAlN涂层的 性能，但迄今为止，还没有关于在Ti(c，N)基金属陶瓷真空冷却一出炉。辅助气体为N2、Ar气体，纯度均 基体上沉积TiAlN涂层的报道。因此。本文采用多弧为99．999％。 离子镀技术在Ti(c，N)基金属陶瓷基体上沉积了 TiN，riAlN涂层，并研究了基体材料对涂层的生长模式 压为一200v一一400v，N2分压0．32Pa，沉积温度500 和涂层形貌、性能等的影响。 ℃，总沉积时间为120min。试样真空炉冷到80℃出炉。 2 3镀层性能的测试与结构分析 2实验 采用日本seikosPA-400型原子力显微镜观察测 2．1基体和镀层材料 量镀层的表面形貌和均方根粗糙度；采用x’PertPRO Ti(c舯基金属陶瓷的成分为型x射线衍射仪对材料处理前后的相结构进行分析； 收稿日期