本征晶格缺陷对BNT铁电薄膜光响应性能的影响.pdfVIP

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2017-09-10 发布于江苏
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本征晶格缺陷对BNT铁电薄膜光响应性能的影响.pdf

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第卷第期９２中国科技论文Ｖｏｌ．９Ｎｏ．２　年月２０１４２ＣＨＩＮＡＳＣＩＥＮＣＥＰＡＰＥＲＦｅｂ．２０１４本征晶格缺陷对犅犖犜铁电薄膜光响应性能的影响李静，王金斌，钟向丽，李波，郭道友，张克栋，王芳　　　（湘潭大学材料与光电物理学院，湖南湘潭４１１１０５）摘要：用溶胶凝胶法在／衬底上制备（）铁电薄膜，研究了退火气氛和退火温度对薄膜的光  ＹＳＺＳｉＢｉＮｄＴｉＯＢＮＴＢＮＴ　３．１５０．８５３１２响应性能的影响。对不同退火气氛和退火温度下的ＢＮＴ薄膜进行微观结构和光响应性能表征。研究结果表明：随着退火气氛中氧含量的降低，光响应增大，薄膜中氧空位起到了为光生载流子传输提供通道的作用；随着退火温度的降低，光开启电压ＢＮＴ和饱和光电导增大，薄膜中高密度的晶界虽然阻碍了光生载流子的迁移，却有利于使光生载流子在晶界处及时分开。ＢＮＴ关键词：铁电薄膜；退火；微观结构；光响应中图分类号：文献标志码：文章编号：（）Ｏ４８４．４Ａ２０９５２７８３２０１４０２０２４３０４　　　　　犈犳犳犲犮狋狊狅犳犪狀狀犲犪犾犻狀狉狅犮犲狊狊狅狀狋犺犲犺狅狋狅狉犲狊狅狀狊犲狅犳犅犖犜犳犲狉狉狅犲犾犲犮狋狉犻犮狋犺犻狀犳犻犾犿狊犵狆狆狆，，，，，，ＬｉＪｉｎＷａｎＪｉｎｂｉｎＺｈｏｎＸｉａｎｌｉＬｉＢｏＧｕｏＤａｏｏｕＺｈａｎＫｅｄｏｎＷａｎＦａｎｇｇｇｇｙｇｇｇｇ（，，，，，）犉犪犮狌犾狋狅犕犪狋犲狉犻犪犾狊犗狋狅犲犾犲犮狋狉狅狀犻犮狊犪狀犱犘犺狊犻犮狊犡犻犪狀狋犪狀犝狀犻狏犲狉狊犻狋犡犻犪狀狋犪狀犎狌狀犪狀４１１１０５犆犺犻狀犪狔犳狆狔犵狔犵：（）／，犃犫狊狋狉犪犮狋ＴｈｅＢｉＮｄＴｉＯＢＮＴｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃｔｈｉｎｆｉｌｍｗａｓｆａｂｒｉｃａｔｅｄｏｎｔｈｅＹＳＺＳｉｓｕｂｓｔｒａｔｅｕｓｉｎａｓｏｌｅｌｒｏｃｅｓｓａｎｄ３．１５０．８５３１２ｇｇｐｔｈｅｅｆｆｅｃｔｓｏｆａｎｎｅａｌｉｎａｔｍｏｓｈｅｒｅａｎｄａｎｎｅａｌｉｎｔｅｍｅｒａｔｕｒｅｏｎｔｈｅｈｏｔｏｒｅｓｏｎｓｅｏｆＢＮＴｔｈｉｎｆｉｌｍｓｗｅｒｅｉｎｖｅｓｔｉａｔｅｄ．Ｔｈｅｍｉ ｇｐ