殘差的方法.pptVIP

On-line Monitoring When the ProcessYields a Linear Profile 指導教授： 童超塵 作者：LAN KANG and SUSAN L. ALBIN 主講人：廖皇盛 目錄 前言 過程描述 管制策略 多變量的方法 殘差的方法 估計A0、A1、σ2 管制的計算程序 多變量的方法 殘差的方法 比較ARL 降低ARL 結論 前言 MFC(Mass Flow Controller)會在半導體的製造過程中加入特殊的氣體來進行蝕刻，每當工程師對MFC進行調校時，都會浪費大量的時間及金錢，因此要對MFC進行監控以降低損失。 本文使用兩個管制策略，即多變量T2(Multivariate T2)和殘差(Residuals，由EWMA及R-Chart所得到)，來監控此程序。 EWMA能對製程微小的偏移做偵測，但是它卻對製程的標準差的變化不敏感，因此需要用R-Chart來做輔助。 ARL(Average Run Length)利用上述兩個管制策略之斜率、截距、製程標準差以求得在變動被查出前所預期分析的樣本數並做比較，以判斷好壞。 最後，設計一個樣本以減少ARL。 過程描述 線性迴歸： Y = A0 + A1X +ε, Xl X Xh (Y為壓力、X為流量點、 A0為截距、A1為斜率、 ε為誤差項是獨立且常態分佈，平均數=0，變異數= σ2) 使用最小平方法來估計A0 、A1，如下： 當樣本統計資料a0j和a1j為常態分佈且已知平均數時，可求得其估計值之變異數，方法如下： a0j和a1j的共異數為： 上述的方式可求得一個新的預測函數，如下： 其預測值與觀察值的差，稱為殘差，如下： 隨機變數eij是獨立且常態分佈的條件下，MSE為σ2之一不偏估計，如下： P.S. a0j、a1j 及MSE都是不偏估計值。 管制策略 在先前的述敘中， a0j和a1j的樣本估計值為常態分配且平均數與變異數為已知，在此情況下，可以分別使用斜率和截距來繪製出兩種不同的管制圖。 A0 、 A1及σ2為已知，即多變量和殘差的管制策略可以使用Phase Ⅱ來操作。 A0 、 A1及σ2為未知，則必須收集相關的資料來估計母體參數並繪製預測管制圖，使用Phase Ⅰ來操作。 多變量的方法 向量 期望值 共變異數矩陣 T2多變量管制圖為： 管制上限為 ，α使用卡方分布百分位數中2個自由度，相當於2個品質特性。 殘差的方法 殘差的平均數為 EWMA為 當0 θ1且Z0=0則EWMA的管制界限為： L為管制界限的寬度，通常設為3 θ設為0.08 , 0.10 , 0.15 , 0.20 為什麼R-Chart要加入EWMA Chart 來監控殘差呢？ 1.發現變異數，V(ε)= σ2有所改變。 2.在某些情況下，殘差值太大，並且要消除導致殘差平均數太小的因素。 全距Rj=maxi(eij)-mini(eij)，R-Chart的管制界限為： 估計A0、A1、σ2 如果有k組樣本，則需用以下方法來估計A0、A1、σ2 當a0j、a1j及MSE為A0、A1及σ2的不偏估計，可得 P.S.當k?∞，則V(a0) ?0和V(a1) ?0，可得知 為 不偏最小估計式。 管制的計算程序- Phase Ⅰ 如果所有的樣本數都落在管制界限內，那可以說a0和a1是最佳的估計量，即Y = a0 + a1X +ε為參考的量變曲線。 當有一個或多個樣本數落在管制界限外時，必須先找出其原因並踢除，然後再用剩餘的樣本數重新對a0、a1及MSE進行估計(注意：要使用新的k值)，反覆這個程序，直到所有剩餘的樣本數(m)都落在管制界限內為止，即可建立出參考的量變曲線。 多變量的方法- Phase Ⅰ 當U和Σ是未知的，則T2-Chart為 為U的不偏估計，S為 Σ的不偏估計。 σ2把換成MSE，即可得到S為 在Phase Ⅰ裡T2-Chart的管制上限為 殘差的方法- Phase Ⅰ 根據之前所提到的等式，將σ替換成 其EWMA及R-Chart為 模擬比較ARL 降低ARL 等式 為無中央對稱的卡方分佈，如果將截距A0改成A0 +λσ和斜率A