超高密度磁记录介质用Fe-Pt薄膜研究.pdf

摘 要 山于超顺磁效应的限制，使用传统的CoCr基薄膜介质的硬磁盘系统记 录潜力已经发挥到了极点，要想继续提高磁记录系统的记录面密度，必须探 寻新的材料。本论文主要研究了FePt薄膜作为下一代垂直磁记录介质的可行 性。由于化学有序的fct—FePt相具有高单轴磁晶各向异性能(7×10 7erg／cm3)， 允i午把晶粒尺寸降低到几个纳米左右，同时保持足够的热稳定性，从两可以 获得更小的记录信息单元，以实现更高的记录密度。 本沦文主要围绕着两个问题展丌：第一部分是致力于降低FePt和 变温度为500。C～600。C，目前的磁盘生产线都不能承受如此高温，因此降低 FePt相的有序化温度就变得非常重要。我们通过在溅射过程中添加N2和原位 有序两种方法在一定程度上降低了FePt相的有序化温度，主要得到了以下结 果： 序化温度降低了100℃左右，并且薄膜的织构从原来的(111)织构转 变为杂乱取向。结构分析表明热处理过程中N原子的释放在薄膜中 形成了大量的空穴，这有利于FePt相的有序化。 2)原位有序制各的FePt薄膜其有序化温度可以降低到250℃左右， 5v01．％)薄膜的有序化温度为400。C左右，这两个温度比 FePt-A1203(1 热处理的方法的有序化温度低200℃左右。 左右，已经达到了超高密度垂直磁记录介质的要求，然而FePt晶粒 大小分布需要进一步改善。 使用的溅射装置的靶到基片的问距较小有关，从而低气压下被溅射 的原予在到达基片时具有较高的能量，这部分能量有助于薄膜的低 温有序化。 第二部分主要致力于制备垂直取向的FePt薄膜，讨论了它们作为垂直磁 记录介质的可行性。由于垂直磁记录技术要求磁记录介质薄膜中晶粒的易磁 化方向垂直于膜面，对于FePt薄膜来说，即具有(001)取向。我们在本论文中 采用Cr(W)衬底层再1][Fe／Pt]。多层两种方法制备了垂直取向的FePt薄膜，主要 结论如下： 构。 2)使用5nm的Mo中间层，有效地抑制了FePt层和Cr衬底层之间的 得到了较好的(001)择优取向的FePt薄膜。 转变，当衬底层中w含量为15at．％时，得到了较强的(001)织构的 FePt薄膜。 41在温度为500。C的基片上采用交替沉积的FePt薄膜表现出较强的 的薄膜表现出最强的(001)织构，进一步热处理可以增强(001)织构。 (001)织构的出现与起始层的织构及热处理过程中晶粒的长大有关。 理后FePt晶粒长大，减小了晶粒边界对畴壁位移的钉扎，从而薄膜 反磁化过程表现出更加明显的成核场机制。 本论文在降低FePt相的有序化温度和制备垂直取向的FePt薄膜方面取 下一代超高密度垂直磁记录介质的潜力。 Abstract Theareal ofharddiskdrive traditionalCoCr—basedthin density using films mediacannotbeelevatedfurther becauseofthe effect．In super-paramagnetism orderto areal increasethe in studiesof densitymagneticrecordingsystem，the new mediamaterialsare dissertationhas magne