ATA对铜镍合金的缓蚀作用及机理的研究.pdfVIP

D一083 ATA对铜镍台金的缓蚀作用及机理的研究 印仁和“，万宗跃‘、棘群杰1，曹为黾‘，皋律均 eduml) ii．上海太学理学院纯学系上晦200444E-mail：yinrh@5ta．E,hu f2、上海电力掌瞄环境工程系目幕电力岔司燕力嫂痔膊世与防护重点实齄星上海200090) 由于铜镰台佥的耐海水腐蚀和耐氨膳蚀性能远优干黄铜．海滨电厂凝汽器管和内陆电厂凝汽器的 空抽区常选用白铜管(铜镍台金)，一般情况下由于铜镍台垒的耐蚀性能更好，使用也较多．但由于受 到各种园紊的影响，也会造成凝汽器铜镍台壶管的腐蚀，这已经成为电厂能否安全，经济运行的突 出问题。 自组装膜(SAMs)是在固体基底素面上借助化学键合自发地形成的有序分子膜，保护墓底盎属免 遣腐蚀，与传统的缓蚀技术相}匕，其有用量少，堤蚀效率高的特点．然而就工业上应用广泛的诸如铁、 铜．锌等金属而言．于其表面上自衄装防腐蚀性的单分子膜技术迂{艮不成熟．亟待进一步开发探索． 3-氨基一1，2,4-三氪唑(ATA，结构式如图1)是一种用逢广泛的有机合成中间体，也是用于人体蛋白 质中色氨酸含量钧特种生化试齐j．它具有禳强屿螫各性，是一种有效的环境友好型盎属缝蚀剂，但对 其研究国内外甚少，ATA在铜镶台会表面自组装SAMs的研究尚来见报道，本文通过电化学对ATA在 铜镶合畚表面彤成SAMs的缓蚀行为进行了研究． 田1ATA的结构示意围 喜特性增加．这表明ATA在Cu-Ni台盎电报采面的吸附形成传护膜，可有效地抻制腐蚀反应曲进行-在高 额段除鞍小的溶j丧电阻外，相位角出现一个极大值．对应着膳蚀电化学反应的时问常数． 同时金属的时 SAMs 蚀性能可以由低籁点的阻抗模值iz限征．阻抗模值lz湛大，则电极的疆挂技栗趄好l“】，组装了ATA 最大，缓蚀性能最好． 表1列出了由囤2(b)得出的腐蚀电位＆州．腐蚀电流密度k和鳗蚀幸目．直口囤2(b)和袁1，相对于空白试 验，组装7ATA 阳极扳化．抻刺了阳极反应过程．同时k明显降低擐蚀教率均在80％以上，说明ATASAMs对3％NaCI溶蘸 中Cu-Ni各盎有覆好的缓蚀作用-其中以组装1h的k最小I缓蚀教聿达9000％摄蚀减果最佳，与交流阻抗棒 到的结论一致． L 929x105 b“鲫血等温式模型，是单分子层吸附．同时可得{ljLangmuir吸附平衡常数K为1tool，计算得 △G。=一蚰12KJ m01．为典型的化学吸附． D．083 垦 掌 ! 黾 暑 (．S耄蛋3 呈 蛊 棚舢棚鄙枷船舢椰劬郎舢舢 E，1，(wscD Cu-Nidectrodesin3％NaCIsolution plots(a)and curve$(b)ofthe Fig．2Nyquist polarization alloy wit