热丝化学气相沉积法制备优质微米%2f亚微米级单晶金刚石的研究.pdfVIP

热丝化学气相沉积法制备优质微米%2f亚微米级单晶金刚石的研究.pdf

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热丝化学气相沉积法制备优质微米 /亚微米级单晶金刚石的研究木 张韬1 沈彬1孙方宏1张志明2 (1上海交通大学机械与动力工程学院,上海200240) (2上海交友钻石涂层有限公司,上海200240) 金刚石颗粒为籽晶,通过甩胶布晶的方法,在衬底上均匀分布晶种,并通过合理控制沉积工艺参 数,在衬底上形成晶形完好的单晶金刚石。在沉积2h后,可消除原HPHT:籽晶缺陷,沉积6h后.生 长出晶形良好的立方八面体金刚石颗粒(约4“m);对于亚微米级单晶金刚石,可直接在衬底上进 行合成,通过调控沉积参数(如衬底预处理方法、偏压大小、沉积时间)对单晶金刚石的分布密度 和颗粒度进行控制。经过2h的沉积。最终获得0.7斗m的二十面体单晶金刚石。 关键宇热丝化学气相沉积法;微米级单晶金刚石;沉积参数 Fabrication andcharacterizationof micro/submicro highquality diamondshot crystal filamentCVD single by Tao‘,ShenBinl,Sun Zhang Fanghon91,ZhangZhimin92 School diao 《l ofMechanicalEngineering,Shanghai TongUniversity, Shanghai200240,China) Diamond 偿ShanghaiJiaoyou 200244China) Coating,.Co.Ltd,Shanghai Abstract:The micro/submicrodiamondswiththeeuhedraldiamondarefabricated highquality faces hotfilamentchemical micro using vapor technique(HFCVD).1nhe deposition singlecrystaldiamonds( l the e onthediamondseedsin sizeofl with and rtm)al pm deposited synthesized highpressurehigh withdiamond solution seedsare onsilicon temperature(HPHT).The photoresist disperseduniformly wafersa

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