SiO2%2fTiO2多层膜结构一维光子晶体光子禁带研究.pdfVIP

第40卷第5期 红外与激光工程 2011年5月 No．5 InfraredandLaser Mav201I V01．40 Engineering Si02／Ti02多层膜结构一维光子晶体光子禁带研究 乌日娜1，闰彬1，王彦华1，徐送宁1，闫秀生2，岱钦1 (1．沈阳理工大学理学院，辽宁沈阳110168； 2．光电系统信息控制国家重点实验室，河北三河065201) 摘 要：制作了SiO刀iO。多层膜结构一雏光子晶体，研究了其光子禁带特性。通过测量红外透射谱，分 析了入射线偏振方向、入射角度以及引入缺陷层对光子禁带的影响。随着入射角度的增大，在TE模式和 TM模式线偏振光下．光子禁带边沿产生蓝移现象。引入TEB30A型向列相液晶缺陷后，光子禁带中在波 长约为l 体透射谱．并对实验结果进行了深入分析。无缺陷时，随着入射角增大，薄膜的光学厚度减小，光子禁带