钛合金双层辉光等离子体渗钽工艺的研究.pdfVIP

j0j褥柚：l：善蕃技术苛挝辩硪究≯lll_l ～ 钛合金双层辉光等离子体渗钽工艺的研究* 陈 飞 ，李 鹏 ，周 海 ，潘俊德 (1．北京石油化工学院 机械工程学院，北京 102617；2．太原理工大学 表面工程研 究所 ，山西 太厚 030024) 摘 要 ：利用双层辉光等离子渗金属技术 ，以纯钽作为源极 ，氩气为工作气体 ，利用不等 电位空心阴 极效应 ，在钛合金表面进行渗钽试验研究。用扫描电子显微镜 (SEM)观察分析 了钛钽合金渗层 的截面形 貌。用显微硬度仪测量渗层的显微硬度 。结果表明，在 Ti6Al4V合金基材表面成功形成钛钽合金扩散层 约为 10ptm厚。表面显微硬度值达到 530HV。工艺参数对渗钽层的厚度有较大影响，渗钽最佳工艺参 数 范 围为 工件 电压 550～600V，源极 电压 850～900V，极 间距 15～40ITlm ，温度 800～900 C。 关键词 ：钛合金；辉光等离子渗钽；工艺参数 中图分类号 ：TG 156．7 文献标志码 ：A ProcessoftheDoubleGlow DischargeTantalizingonTitanium AlloySurface CHEN Fei。【IPeng ，ZHOU Hal，PAN Junde (1．CollegeofMechanicalEngineering，BeijingInstituteofPetrochemicalTechnology，Beijing102617．China； 2．SurfaceEngineeringInstitute，TaiyuanUniversityofTechnology，Taiyuan030024，China) Abstract：TheTi— Taalloyingdiffusion layerwasfabricatedonthesurfaceoftitanium alloy(Ti6A14V)bydoubleglow dischargeplasmatechnique．Thepuretantalum WasselectedasthesourcecathodeandArastheworkinggas．Themicro— hardnessofthesurfaceofsamplewastestedbyHMV一 1T micro—sclerometer．ThecrosssectionalmicrostructureoftheTi ～ Taalloyinglayerareanalyzedby meansofscanningelectronmicroscopy (SEM )．Theprocessofthedoubleglow dis— chargetantalizingonthesurfaceoftitanium alloyisalsostudiedinthepaper．Theresultsshow thatitisfeasibletOprepare analloyinglayer．ThemicrohardnessoftheTi— Taalloyinglayerisas530．0 HV ，which ismuch largerthanthatofthe Ti6AI4V．Theprocessparametershaveobviouseffectsonthethicknessofthealloyinglayer．Theoptimum parametersof thedoubleglow dischargetantalizingontitanium surface．Cathodevoltdgeis550～ 600V 。Sourcevoltageis850～ 900V ， Distanceofpolesis15～ 40mm ．Treatmenttemperatureis800～ 900C． Keywords：Ti—alloying；Diffusion layer；Titanium surface 钛和钛合金以其密度小 ，比强度高而著称，加之 Ta—Ti合金 制作核原料 Pu的熔炼 坩埚和搅 拌 其优越的耐蚀性能 ，使得它 的