红外光学系统自身杂散辐射分析及抑制.pdfVIP

论文 lARTICLE 时又在冷阑抑制范围之外 的机械元件杂散辐射影响 由于ASAP是基于蒙特卡罗法 的一种杂光分析 相对较大 。本文 以折反式红外光学系统为例 ，利用 软件 ，追迹光线条数越多，仿真结果越准确。然而 ，追 ASAP光学分析软件 ，建立了红外系统的三维仿真模 迹光线条数的增多，会增加计算时间，降低计算效率。 型，并对系统各重要元件 自身热辐射产生的杂散辐射 因此 ，选择合适的追迹光线条数十分重要 。此外 ，为了 进行了定量分析。根据模拟分析结果，重点对靠近像 解决计算效率与计算准确性的问题 ，在仿真计算时， 面和距离视场较近的机械结构进行 了优化设计 。此 采取了重点区域采样的方法。该方法将重点区域定义 外，针对红外系统 自身辐射性能的评价 目前尚缺乏较 为从每个被照明和关键 目标可以看到的探测器像面 ， 为统一标准的情况下，引入了有效发射率的概念，对 使原本在2兀空间内散射 的光线只朝着我们感兴趣的 优化前后的系统杂散辐射性能进行了评价。 方向追迹 ，进一步提高追迹效率 ，减少追迹时问。软件 可以根据各元件表面所设定 的散射模型 自动在我们 2分析模型的建立 感兴趣的方向 即重点区域方 向 分配散射能量 。 2．1红外系统几何模型 3杂散辐射分析 以典型的R—C Ritchey—Chretien 系统为主要结 在红外光学系统中，各辐射源到达像面的杂散辐 构的红外光学系统为例开展杂散辐射分析研究，系统 射通量主要由以下因素决定 ： 光机结构示意图如图 l所示 。该红外光学系统后光路 1 杂散辐射源 自身向外辐射的能量，它主要与辐 由5个透镜组成 ，入射光经二次成像后最终到达探测 射源的表面发射率 、面积 、温度以及辐射波段有关； 器。系统的F数为 2．1l，入瞳位于主镜处，其直径 D 2 辐射源产生的杂散辐射能够到达像面的百分比， 260mm，物方视场角 0 0．86。。在系统出瞳处设计有 它主要与辐射源所处的位置、辐射传播路径以及传播 冷阑，即实现冷光 阑的 100％匹配。冷阑的作用是将像 路径上各关键表面的散射特性有关。 方视场外的背景辐射遮挡掉 ，例如 ，靠近探测器像面 杂散辐射分析的主要步骤如图2所示 。首先，从 较近的镜座 、镜筒等在像方视场之外 的机械件的杂散 像面出发进行逆向追迹找到系统的 “关键面”。能够在 辐射均可得到有效抑制。 像面处看到的表面称为 “关键面”，这些表面会直接 向 像面辐射或散射能量。应尽量减少或 肖除能被探测器 直接看到的辐射源，以抑制这些 “关键面”产生的热辐 射。从杂散辐射源所在物空问出发来查找被照射的表 面，称为 “被照射面”。