NiNb-%2c2-O-%2c6-薄膜的制备及光催化降解性能的研究.pdfVIP

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2017-09-01 发布于安徽
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NiNb-%2c2-O-%2c6-薄膜的制备及光催化降解性能的研究.pdf

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NiNb206薄膜的制备及光催化降解性能的研究杨炜·徐立海王聪·王天民 (北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心北京100083) andPhoto PreparationCatalyticDegradation Researchof NiNb，0；Film WeiXuLihai Tianmin Wang Wang Yang Cong of andMaterials of Condensed (Center Physics Physics，SchoolScience， BeihangUniversity，Beijing，100083) h h _I_，{} roll ，摘要‘。应用磁控溅射技术在陶瓷基片和玻璃基片上分别制备了NiNb：O。和TiOz 光催化薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、uV—VIS—NIR分光光度计等手段对薄膜的结构进行了分析，采用光催化降解染料罗丹明B溶液的方 Pa和沉积时间4h条法表征了NiNb：0。和TiO：薄膜的光催化性能。在溅射气压2 件下，得到光催化性能很好的NiNb：0。薄膜。玻璃基片上NiNb：O。薄膜的光催化性能要明显优于陶瓷基片上该薄膜的光催化性能。，关键词光催化降解NiNb：0。射频磁控溅射 havebeen onceramicand substratesRF Abstract glass by magnel NiNb206andTi02films deposited tron method．Thestructureofthefilmshasbeen sputtering analyzedbyX·raydiffraction(XrD)，SCUll— electron catalyticdegradating ning microscopy(SEM)．UV-VIS·N1Rspoctmphotometer．Throughphoto rhodamineB studiedthe of havefound solution，we catalyticactivityNiNb206andTi02films．We photo withthe 2Paandthe time4hhad NiNb206filmsputteringpressure depositing v。Tygoodphotocatelyt- ic filmon substratehasbetter than