等离子体激活电子束物理气相沉积NiCoCrAlY涂层的制备及微观组织结构研究.pdfVIP

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2017-09-01 发布于安徽
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等离子体激活电子束物理气相沉积NiCoCrAlY涂层的制备及微观组织结构研究.pdf

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真空科学与技术学报第32卷第8期 746 CH姗蕊JoI瓜NAI．oFVAcUUMSa吲CEAND’IECHN删 2012年8月等离子体激活电子束物理气相沉积NiCoCrAlY 涂层的制备及微观组织结构研究常健郑蕾’ 彭徽郭洪波宫声凯 (北京航空航天大学材料科学与工程学院北京100191) MicrostrueturesofNiCoCrAIYGrownPlasma coatingsby ActivatedElectronBeam PhysicalVaporDeposition Hui，Guo ChangJian，ZhengLei。，PeIlg Songbo，GongShengkai (Schod Sdem譬and ofMatz,nJab Eng／neer／ng，＆沈嘲Un／vers／ty，咖100191，Ch／na) Abstractanovel activatedelectron de·· technique——the vapor plasma beam·-physical theconventionalelectronbeam reducethe deposition(EB-PVD)to velopodbymedifying physicalvapor significantly were columnarandlineardefectsoftheNiCoCrAlY EB—PVD．The NiCoCrAlY de— coatings，grownby highquality coatings the ofthe conditionsonmicrostructuresandmechanical positedby newly—developedtechnique．Theimpacts deposition ofthe wereevaluated．Theresultsshowthatthe ofthe adatom affectsitsmi· propertiescoating energy impingingstrongly arc bias．As crostructures．TheoftheadatomCanbeincreased the andsubstrate energy byincreasingdischargevoltage theadatom columnarofthe intothenlore increased，the equiaxiaJ energy grains coatingchanged compact ones，a