折射率渐变无机高分子光学薄膜的制备和研究.pdfVIP

折射率渐变无机高分子光学薄膜的制备和研究 晏良宏 严鸿维 赵松楠 吕海兵 王滔 袁晓东 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心，四川 绵阳，621900 无机高分子光学薄膜性能优异，广泛用于各种光电子元器件和太阳能电池等领域。但传 统的无机高分子光学薄膜折射率恒定，即折射率不随膜层厚度变化。随着光电子元器件的发 展，在很多应用领域对无机高分子光学薄膜提出了新的要求，需要一种折射率渐变无机高分 子光学薄膜，即薄膜的折射率随着膜层厚度发生变化。折射率渐变无机高分子光学薄膜有许 多重要应用，例如折射率渐变膜层可用于制备宽带增透膜，克服常规增透膜窄带增透的缺点； 折射率渐变膜层用于新型光纤，可提高光纤的传输质量。折射率渐变膜层用于半导体器件， 可消除Fresnel反射。虽然折射率渐变膜层的理论研究有很多研究，但是折射率渐变膜层的实 验制备却鲜见报道。 主题C功能高分子与高分子新材料 2012年lo月16日一20日中国·武汉 率由外向内成渐变规律。膜层的折射率与膜层孔隙率相关，渐变的孔隙率形成折射率渐变。 在扫描电镜观察下，膜层刻蚀前后有明显变化。刻蚀前膜层厚度为450椭，膜层致密(虽 然膜层有10％左右的小于1纳米的孔道，但扫描显微镜无法分辨)；刻蚀后膜层厚度为420llm， 减少了30砌，更显著的是刻蚀后膜层疏松多孔，且孔道有规律的呈渐变规律。膜层外部孔 隙率大而内部孔隙率小。采用椭偏仪测试了膜层折射率的分布规律，如图2所示。膜层折射 率随厚度逐渐变化，变化规律接近于线性规律。接近基片的部分折射率为1．42，接近空气的 部分折射率为1．17。折射率变化规律与设计结果一致。折射率渐变膜层的重要应用是制备宽 带增透膜。因此我们将折射率渐变膜层制备在K9玻璃基地上，观察膜层的透过率，结果如 图3所示。在400I埘到1100姗范围内，l@基地的透过率低于93％，在基地上镀上折射率 渐变膜层后，膜层的透过率高于99．0％，实现了宽带高透。 图2膜层折射率的变化规律 ∞ ， ＼． ．厂 —、、_、-一， ■ 昭 盯 ∞ ∞ ^搴，t一量-Zc卫‘． ■ ∞ t _-，_一 l¨m_t自l I：=竺! f 针 ∞ 枷 ∞O 图3折射率渐变膜层的透过率曲线 Inorganicpolymeropticalfilmswithgradedrefractiveindices YANLianghongYANHongweiZAOSongnanLVHaibinWANG Tao Xiaodong ResearchCenterofLASERfusion,ChinaAcademyofEngineeringPhysical,Mianyang621900 Abstract:Inorganicpolymeropticalfilmswithgradedrefractiveindiceswerepreparedthroughthe nanoetchingofthesilicafilms.Thescanningelectronmicroscopywasusedtomeasurethe thicknessofthefilmandobser