纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验的研究_4_2纳米颗粒胶体射流抛光系统原理与组成_.pdfVIP

哈尔滨工业大学工学博士学位论文 第 4 章 纳米颗粒胶体射流抛光试验装置的研制 4.1 引言 纳米颗粒胶体射流抛光是一种可以实现原子级材料去除的抛光过程。首先 - 通过胶体中的OH 离子在工件表面的化学吸附来降低工件表面原子的原子结合 能，然后利用入射胶体中纳米颗粒与工件表面原子的碰撞反应及胶体的粘滞作 用，使表面原子与工件表面分离，从而实现工件材料的原子级去除。纳米颗粒 胶体射流抛光作为一种新的光学抛光方法，为了能够实现工件的超光滑表面抛 光，要求纳米颗粒胶体射流抛光系统的驱动压强稳定可控、能够实现微量进给 及精确定位，而且需要保证在抛光过程中具有很强化学活性的纳米颗粒胶体不 被污染。 本章基于前文关于纳米颗粒胶体射流抛光去除机理的研究，研制了纳米颗 粒胶体射流抛光系统，为纳米颗粒胶体射流抛光提供了技术及设备。 4.2 纳米颗粒胶体射流抛光系统的原理与组成 4.2.1 纳米颗粒胶体射流抛光系统的总体方案设计 纳米颗粒胶体射流抛光系统的加工方法是采用微孔喷嘴形成微细射流，通 过射流动压强将能量施加在胶体中的纳米颗粒上，入射的纳米颗粒与工件表面 原子碰撞后发生表面界面反应，再通过胶体的粘滞作用，将与工件表面反应的