感应耦合等离子体刻蚀机二维放电模拟.pdfVIP

第 卷 第 期 半 导 体 学 报 年 月 感应耦合等离子体刻蚀机二维放电模拟 程 嘉 朱 煜 汪劲松 清华大学精密仪器与机械学系 制造工程研究所北京 摘要为研究感应耦合等离子体 刻蚀机腔室与线圈结构以及工艺参数对等离子体分布均匀性的影响基于 商业软件 中等离子体与电磁场等模块建立了 刻蚀机二维放电模型 仿真研究了典型工艺条件 下氩等离子体电子温度与电子数密度的空间分布对比了不同气压与功率条件下等离子 体参数在硅片表面的一维分布 结果表明电子数密度随气压与功率的增加而升高电子温度随气压的增加而降 低随功率增加在较小范围内先降低再升高 通过分析屏蔽板对等离子体参数的影响发现其有助于提高等离子体 密度 进而发现屏蔽板的孔隙率越大电子温度越高电子数密度则越低 关键词干法腐蚀工艺感应耦合等离子体电子数密度电子温度 中图分类号 文献标识码 文章编号 对 刻蚀机进行等离子体放电模拟具有实际的 引言 工程意义和重要的学术价值 本文以刻蚀机反应腔室二维轴对称模型 电子信息产业的蓬勃发展离不开 装备设计 为例使用商业软件 对典型工艺条件 与制造技术的不断进步 在 制造流程中有超过 下氩等离子体参数在反 三分之一的设备使用了等离子体技术譬如刻蚀机 应腔室中的空间分布进行了仿真研究进而对比分 及 等 其中应用最为广泛的是感应耦合 析了不同气压 及不同功率