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半导体材料-短篇.doc
半导体基础知识
张光春
2006.3
一.半导体材料
1.1固体材料按其导电性能可分为三类:绝缘体、半导体及导体,它们典型的电阻率如下:
1.2半导体又可以分为元素半导体和化合物半导体,它们的定义如下:
元素半导体(element):由一种材料形成的半导体物质,如硅和锗。
《半导体器件与物理工艺》
化合物(compound)半导体:由两种或两种以上元素形成的物质。
二元化合物
GaAs — 砷化镓
SiC — 碳化硅?
ZnS — 硫化锌?
GaN — 氮化镓
三元化合物
AlGa11As — 砷化镓铝
AlIn11As — 砷化铟铝
1.3半导体根据其是否掺杂又可以分为本征半导体和非本征半导体。它们的定义分别为:
本征半导体:当半导体中无杂质掺入时,此种半导体称为本征半导体(Intrinsic Semiconductor),此时EF在禁带中央。
非本征半导体:当半导体被掺入杂质时,本征半导体就成为非本征(extrinsic)半导体。
1.4掺入本征半导体中的杂质,按释放载流子的类型分为施主与受主,即:
施主:当杂质掺入半导体中时,若能释放一个电子,这种杂质被称为施主。如磷、砷就是硅的施主。
受主:当杂质掺入半导体中时,若能接受一个电子,就会相应地产生一个空穴,这种杂质称为受主。如硼、铝就是硅的受主。
1.5掺入施主的半导体称为N型半导体,如掺磷的硅。由于施主释放电子,因此在这样的半导体中电子为多数导电载流子(简称多子),而空穴为少数导电载流子(简称少子)。
相对的,掺入受主的半导体称为P型半导体,如掺硼的硅。由于受主接受电子,因此在这样的半导体中空穴为多数导电载流子(简称多子),而电子为少数导电载流子(简称少子)。
1.6载流子浓度
本征半导体的载流子浓度
ni=n0=p0
n0 p0= ni2 热平衡条件
非本征半导体的载流子浓度
一般情况下:,。如下图:
另外,电阻率与杂质浓度有如下关系:
本征半导体:
另外,根据不同导电类型的半导体,上述公式可以简化为:
n型半导体:
p型半导体:
平衡载流子
处于热平衡状态的半导体,在一定温度下,载流子浓度是一定的,这种处于热平衡状态下的载流子浓度,称为平衡载流子浓度。
n0 p0= ni2
非平衡载流子
处于非平衡状态的半导体,其载流子浓度也不再是n0和p0,可以比他们多出一部分,多出这部分载流子称为非平衡载流子,用△n和△p 表示。
光照产生非平衡载流子
非平衡载流子的寿命
— 非平衡载流子平均生存的时间称为非平衡载流子的寿命。
由于相对于非平衡多数载流子,非平衡少数载流子的影响处于主导地位,因而非平衡载流子的寿命(常称为少数载流子寿命,简称少子寿命)被用来衡量材料的质量。
当时,,即此时就是材料的少子寿命。
1.7复合理论
直接复合(direct recombination)
由电子在导带与价带间直接跃进而引起的非平衡载流子的复合过程。
间接复合(indirect recombination)
-非平衡载流子通过复合中心的复合。
3.表面复合(surface recombination)
是指在半导体表面发生的复合过程
表面处的杂质和表面处特有的缺陷也在禁带形成复合中心能级,因而,就复合机制讲,表面复合仍然是间接复合。
实际测得的少子寿命应是体内复合和表面复合的综合结果。设这两种复合是单独平行发生的。用表示体内复合,用表示表面复合。
总的复合机率为:,其中τeff称为有效少子寿命。
复合过程中能量的释放
载流子复合时,一定要释放多余的能量,放出能量的方法有三种:
① 发射光子,即伴随着复合,将有发光现象,常称为发光复合或辐射复合。
② 发射声子,载流子将多余的能量传给晶格,加强晶格的振动(使硅体发热)。
③ 将能量给予其它载流子,增加它们的动能,称为俄歇(Auger)复合。
二.P-N结
P-N结的形成
在一块n 型(或P型)半导体上,用适当的工艺方法把P型(或n型)杂质掺入其中,使不同区域分别具有n型和p型的导电类型,在二者的交界处就形成了p-n结。
P-N结的杂质分布
平衡PN结的电场,电势和结宽(以突变结为例)
电荷分布:
不同偏压条件下,P-N结的能带图
《半导体器件物理与工艺》
P-N结的电流电压特
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