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材 料 化 学 期 末 论 文 论文题目：氧化钇透明陶瓷的研究进展 班级：08化学教育 姓名：武传龙 氧化钇透明陶瓷的研究进展 摘 要： Y2O3为立方结构，熔点高，化学和光化学稳定性好，光学透明性范围较宽，声子能量低，易实现稀土离子的掺杂。Y2O3透明陶瓷在高温窗口，红外头罩，发光介质(闪烁、激光和上转换发光)及半导体行业具有潜在应用价值，有些已获得实际应用。结合研究结果，本文重点介绍 Y2O3透明陶瓷制备工艺的研究进展，综合评述 Y2O3透明陶瓷在高压气体放电灯灯管、窗口材料、闪烁陶瓷、激光陶瓷、上转换发光等应用领域方面的研究，并对国内Y2O3 透明陶瓷的研发提出看法。 关键词: 氧化钇 透明陶瓷 制备工艺 稀土掺杂 综合评述 正文: 引言 氧化钇（Y2O3）透明陶瓷材是一种高性能的陶瓷材料。它具有耐热、耐腐蚀、熔点高（2430℃），介电常数高等优良性能，且属于立方晶系，没有双折射现象，并且具有一般陶瓷所不具备的高顺磁性和荧光性质等，是一种性能优良的高温红外材料和电子材料[1]。可以广泛用作光学元件，如高温光学窗口、激光红外窗口、红外发射器管壳等。添加Nd、Yb、Ce、Ho等稀土元素后，Y2O3透明陶瓷还可以作为固体激光器的工作物质[1]. 透明陶瓷的有透光性不仅取决于其化学成分和晶系等内在因素。还与烧结体的组织结构有密切的关系，即烧结体内的微气孔、晶界散射、晶粒尺寸及其均匀度对陶瓷的透光有很大的影响，而烧结体的特 性不仅与粉体的性能有关，更与烧结工艺密不可分。 室温下，Y2O3为稳定的 c 型立方结构, 晶格常数为 1.060 nm, 空间群为 Th7。每个单胞中包含 32个 Y3+和 48 个 O2–。Y 离子格位存在两种不同的晶格环境，有 8 个高对称性的 S6(即 C3i)格位和 24 个 低对称性的 C2格位。两种不同 Y 格位的配位数均为 6。 Y2O3的物理化学性质的主要特点是： 1) 熔点高，化学和光化学稳定性好，光学透明性范围较宽(0.23～8.0μm)； 2) 在 1 050 nm 处，其折射率高达 1.89，使其具有 80%以上的理论透过率； 3) Y2O3具有足以容纳大多数三价稀土离子发射能级的、较大的导带到价带的带隙，可以通过稀土离子的掺杂，实现发光性能的有效裁剪，从而实现其应用的多功能化； 4) 声子能量低，其最大声子截止频率大约为550 cm–1，低的声子能量可以抑制无辐射跃迁的几率，提高辐射跃迁的几率，从而提高发光量子效率；[2] 5) 热导率高，约为 13.6 W/(m·K)，高的热导率对其作为固体激光介质材料极为重要。[3] 上述特性使 Y2O3透明陶瓷在高温窗口、红外探测、发光介质、半导体行业具有潜在应用价值。本文结合研究结果，较为全面地总结 Y2O3透明陶瓷的制备工艺和应用研究等相关进展，并对国内 Y2O3透明陶瓷的研发提出看法。 2氧化钇透明陶瓷的制备方法一种氧化钇透明陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：　　　　Ａ）在室温下，将浓度为０．３ｍｏｌ／Ｌ－１．０ｍｏｌ／Ｌ的Ｙ（ＮＮＯ↓［３］）↓［３］（溶液与浓度为０．５ｍｏｌ／Ｌ－２．０ｍｏｌ／Ｌ的ＮＨ↓［４］ＨＣＯ↓［３］溶液混合，同时加入（ＮＨ↓［４］）↓［２］ＳＯ↓［４］，（ＮＨ↓［４］）↓［２］ＳＯ↓［４］的加入量为Ｙ离子摩尔浓度的０．１－０．８倍，对混合溶液进行搅拌，上述混合过程中使用的滴定方式为反向滴定；　　　　Ｂ）将上述反应后的溶液陈化１２－４８小时；　　　　Ｃ）用去离子水清洗从上述溶液过滤得到的沉淀物，除去反应附产物ＮＨ↓［４］ＮＯ↓［３］，再用无水乙醇清洗，除去沉淀物中的水分；　　　　Ｄ）将清洗后的沉淀物在６０℃－１２０℃干燥２４－４８小时，得到前驱物粉体；[4]　　　　Ｅ）干燥前驱物粉体，然后对干燥后的前驱物粉体进行煅烧，煅烧温度为９００℃－１０００℃，保温时间为３小时；　　　　Ｆ）在煅烧后的粉体中添加质量百分比为０．１％－２．５％的ＬｉＦ粉，然后在压强为１００ＭＰａ－２００ＭＰａ下模压成型，再在温度为１３００℃－１５００℃、压强为１０ＭＰａ－５０ＭＰａ、真空度１０↑［－２］Ｐａ－１０↑［－３］Ｐａ的环境下热压、然后退火，退火温度为１０００℃－１２５０℃，之后在温度为１６５０℃－１７５０℃、压强为１００ＭＰａ－２００ＭＰａ下进行热等静压，得到最终的氧化钇透明陶瓷。 3 Y2O3透明陶瓷的应用研究 Y2O3因