碲锌镉缓冲层液相外延技术研究.pdfVIP

第37卷增刊 激光与红外 V01．37，Supplement 2007年9月 I^SERINFl¨RED September，2007 编者按：“第三届全国先进焦平面技术研讨会”已于2007年6月上旬在广西桂林召开。科研课题 经过几年的努力工作，在红外与紫外焦平面阵列及相关技术的研究中，取得了许多新的进展。第三 届垒国先进焦平面技术研讨会共交流科研论文48篇。为报道科研进展、促进交流，本刊在项日专 家组的支持下，继续以专辑形式全文刊出其中33篇论文(其余有的已经另行发表)。为使论文尽 快与读者见面，本刊特以“增刊”形式刊出。“首次全国先进焦平面技术研讨会论文选”发表在本刊 2005年第11期，“第二届全国先进焦平面技术研讨会论文选”在本刊2006年第11期刊出。敬请 读者参阅。 文章编号：1001-5078(2007)增刊-0907-03 碲锌镉缓冲层液相外延技术的研究 周立庆，刘兴新，巩锋，胡尚正 (华北光电技术研究所，北京100015) 摘要：文章报道了采用液相外延方法，在碲锌镉衬底上进行碲锌镉薄膜缓冲层生长的情况， 并且采用x光双晶衍射仪、x光形貌仪、红外傅里叶光谱仪、二次离子质谱仪等手段对碲锌镉 薄膜进行了表征，碲锌镉薄膜具有较好地组分及均匀性，晶体结构质量也较好。采用碲锌镉缓 冲结构生长了碲镉汞液相外廷片，其碲锌锅与碲镉汞薄膜界面附近的杂质得到了有效的控制。 关键词：碲锌镉薄膜；液相外廷；薄膜特性 中圈分类号：TN304．054文献标识码：A LPEGrowthofCdZnTeBuffer onCdZnTeSubstrates Layers ZHOU Li-qing，LIUXing-xin，GONGFeng，HUShang·zheng ChinaResearchInstitute (Noah ofElectm—optics，Beijing100015，China) On article theresultofLPEcdznTeCdZnTesubstrates．TheCdZnTe WaScharacter- Abstract：This e叫ayer presenb On show izedwith and兀1R．The[,IRECdZnTefilmsCdZnTesubstrate diffraction，X-raytopography，SIMS X-ray and crystal between andCdZnTebuffer isCOD．- goodcompositionuniformity，goodquality．Theimpurity HgCdTe layer trolledwellthis structure． very by HgcdTe／CdZnTe／CdZnTe words：CdZnTe characterization Key fdm；LPE；epilayer 1引言 由于碲镉汞液相外延的温度较高，外延过程中 随着碲镉汞红外焦平面技术的飞速发展，高性 的回熔工艺等原因，碲锌镉衬底材料加工及表面处 能