两种等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜摩擦性研究的论文.pdfVIP

第25卷增刊 北京理工大学学报 v01．25 Suppl． of 2005年9月Transactions Institute Beijing ofTechnology Sep．2005 文章编号：1001-0645(2005)增刊·259．04 两种等离子体化学气相沉积制备 类金刚石薄膜摩擦性研究 胡立琼， 张跃飞， 王瑜， 陈强， 葛袁静 (北京印刷学院等离子体物理与材料研究室，北京 102600) 摘要：采用平行板电容耦合射频辉光放电化学气相沉积(RF．PECVD)装置，在镀有TiN厂ri过渡层的碳钢表 面制备类金刚石膜(DLC)，以