纳米压印用压印胶的研究进展.pdfVIP

加工、测量与设备 Processing，MeasurementandEquipment 纳米压印用压印胶的研究进展 董会杰’，辛 忠 ，陆 馨 (1．武汉纺织大学 化学与化工学院，武汉 430200； 2．华东理工大学 化学工程联合 国家重点实验室，上海 200237) 摘要：纳米压印需采用压印胶进行 图案转移，作为压印技术的关键材料 ，压印胶的性能直接影响 到纳米压印的质量。根据压印技术的工艺特点对压印胶进行 了分类，介绍 了纳米压印用热压印胶 和紫外压印胶的发展研究现状和性能优缺点，分析 了目前压印胶存在的主要 问题，并指 出压印胶 的研究主要是提高压印胶的脱模性能、固化速率以及简化工艺，主要列举 了含氟硅类压印胶 、双 表面能压印胶的性能特点，并展望了未来的发展方向。 关键词：纳米压印；紫外压印胶 ；热压印胶 ；脱模性；表面能 中图分类号 ：TN305．7 文献标识码：A 文章编号：1671—4776 (2014)10—0666—07 ResearchProgressofResistsfortheNanoimprintLithography DongHuijie，XinZhong。，LuXin (1．CollegeofChemicalEngineering，WuhanTextileUniversity，Wuhan430200，China； 2．StateKeyLaboratoryofChemicalEngineering，EastChinaUniversityScienceand Technology，Shanghai200237，China) Abstract：Resistsareusedtotransferpatternsinthenanoimprintlithography．Asthekeymate- rialsforthenanoimprintlithography，thepropertiesofresistshavedirectlyinfluenceonthequali— tyofthenanoimprintlithography．Accordingtothefeaturesofthenanoimprintlithography，the resistsareclassified，thedevelopmentresearchstatusandperformanceadvantagesanddisadvan— tagesofthermalandUV—curablenanoimprintlithographyresistsareintroduced．Thecurrent mainproblemsoftheresistsareanalyzed，anditispointedoutthattheresearchoftheresistsis mainlyimprovingthedemouldingproperty，curingrateandsimplifyingtheprocess．Theper— formancecharacteristicsoffluorineand siliconcontainingresistsandbi—surfacepropertyresists aremainlylistedandanalyzed．Finally，thedevelopmentdirectionofresistsisprospected． Keywords：nanoimprintlithography；UV—curableresist；thermalresist；demoulding property； surfaceenergy DOI：10．13250／j．cnki．wndz．2014．10．009 EEACC：2550G L 学华裔科学家 S．Y．Chou等人Ⅲ于 1995年提 出。 0 — 百