硅烷偶联剂修饰蒙脱土过程机理地研究.pdfVIP

硅烷偶联剂修饰蒙脱土过程机理的研究 李金梅，苏海全·，通拉嘎，王晓丽，雷艳秋 (内蒙古大学化学化T学院呼和浩特010021) 摘要 本文用三种不同类型的硅烷偶联剂修饰蒙脱土，通过水杨醛显色法定量结果分析和硅烷化蒙脱土的x射线粉 末衍射(XRD)结果分析，阐明了偶联剂修饰蒙脱土的过程机理；认为蒙脱土的活性羟基分布在其端面上；蒙脱土和偶 联剂的硅烷化反应优先偶联剂的自聚反应。 with trifunctionalsilanc The mechanismfor ofmontmorillonitemono．-，di—and coupliIlgagent processing silylafion reactionXRDcharacterization．Thelocationand wasclarificcl chromogenicagent and respectively bysalicylicadehyde reactionofmontmorillonitewithsilane oftheactive-SiOHinmontmorillonitewe∞determined．The quantity silylation to of is the silane agent． couplingagentprior self-polymerizationcoupling 关键词：硅烷偶联剂；蒙脱土；过程机理 1 引言 蒙脱土上有可反应的活性羟基，这一结论已经通过硅烷偶联剂和蒙脱土的反应得到证明u1，但 活性羟基是分布在蒙脱土的层间还是在蒙脱土的端面或者都有，目前文献报道还没有统一定论。有 Cao 代表性的论点主要是下面两种类型。Hongping晗1和JingDai‘31等认为硅烷偶联剂与蒙脱土的 HerreraH。认为三官能团硅烷 反应是在层间进行的，活性羟基位于蒙脱土的层面：而NormaNegrete 偶联剂与蒙脱土的反应是在端面进行的并在土的端面上自聚起来形成网络结构，从而影响土的阳离 子交换容量。本文用三官能团、二官能团、单官能团的硅烷偶联剂即3一氨丙基三乙氧基硅烷 蒙脱土反应，以此来摸索硅烷偶联剂和蒙脱土反应的过程机理。 2实验部分 三种偶联剂的结构简式分别如下所示，反应活性依KH一550、DB--902、MC依次降低。其中， 只有一个活性官能团不能自聚形成低聚物。 ?c2H5 甲c2如 NH2一(CH2)3一Si—OC2H5NH2一(CH2)3一Si—Oc2H5 I I 一@助T％如 oc2地 cH3 KH．550 DB．902 取一定量的硅烷偶联剂室温下在lOOml1：100的HzO／乙醇体系中水解2h，滴入一定体积的分散 15h。烘干的土继续用无水乙醇在索氏提取器上提取24h，以提取粘土上物理吸附的偶联剂。将滤液 的溶剂蒸干，用无水乙醇溶解未反应的硅烷偶联剂，然后把此部分偶联剂乙醇溶液与索氏提取器中 的乙醇溶液合并起来，用水杨醛显色法晦1测定未反应的偶联剂的量，从而计算出实际反应的硅烷偶 联剂的质量；计算偶联剂相对土的反应率，即实际反应的偶联剂质量／蒙脱土质量(％)。三种偶联剂 资助。 704 修饰的土分别记为KH-550-MMT、DB-902-MMT、MC-MMT。 3．结果与讨论 0 ED 80