小角X射线散射在胶体界面化学的探究中的应用.pdfVIP

小角x射线散射在胶体界面化学研究中的应用+ 李志宏巩雁军 吴东’ 中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室，太原030001 胶体是一种重要的纳米粒子分散体系…。由于胶体粒子与分散介质之间存在电 子密度差，而胶体粒子的尺度正好在SAXS的检测范围，加之高强度的同步辐射的 应用，使得SAxs成为研究胶体的少数几种手段中的最有效手段之一12】可以得到 许多定性和定量的结构信息，如胶团和胶核的尺度分布、界面层厚度及分形维数等。 二氧化硅胶体作为胶体体系中的重要一员，有着广泛的用途。本文以二氧化硅胶体 为例，考察体系的散射特征，介绍小角X射线散射方法在胶体界面层的定性和定量 解析中的应用。这有助于认识胶体界面的物理化学特征。 这里采用如下方法制备胶体：将一定量(5％重量比)的表面活性剂．壬基酚聚 氧乙烯醚(Tx一10)溶于乙醇，将前驱体正硅酸乙酯(TEOS)在搅拌下加入上述溶 液，．然后加入一定量的去离子水，继续搅拌30min后，加入6MNH40H，它们的摩 温度下静置陈化，制得如表1所示的样品。 表l 二氧化硅胶体制各条件 射实验站上进行的。贮存环的电子能量为22．2GeV，平均束流强度为60mA，长狭 缝准直系统，入射x射线波长为0．154rim，采用成象板法检测散射强度。散射强度 进行空白和样品吸收的校正。数据处理采用自编程序进行。这里以日表示散射矢量， 糊散射强度。SAXS结果示于表2。 表2 SAXS测试结果 ED Eo 样品嚣器燃嚣…Rn／核nm半竺Ep 1 Negative5．63 7．27 4．49 2．02 2．40 2．78 2 Negative5．94 7．68 5．53 1．95 2．07 2．15 3 NegaIiVe7．03 9．09 7．4l 1．61 1．69 1．68 4 Negative7．38 9．53 8．OO 1．57 1．60 1．53 5 Negative8．26 10．68 9．51 1．25 1．24 1．17 6 Negative9．65 12．47 11．42 1．09 1．J2 1．05 ’E-mail：wudong@public，ty．sx．cn +田家重点基础研究专项基金(G 其中Ib为胶团(胶体粒子)的平均回转半径；R，为胶团(胶体粒子)的平均半径： RN为胶核的平均半径：EP为采用Porod负偏离分析法【3】求得的胶体的平均界面层厚 度；ED为采用Debye负偏离分析法14】求得的胶体的平均界面层厚度；E。为采用 Porod负偏离校正前后的Guinier曲线进行解析，分别求出胶团和胶核的粒度分布， 根据粒度分布求出胶团平均半径和胶核平均半径，=者相减即得平均界面层层厚度， 记为Eo。 根据胶体的物理化学原理，胶体粒子(胶团)是由胶核和包裹在其外的界面层 所组成，界面层的电子密度介于胶核和分散介质之间，这种体系的小角X射线散射 将形成对SAXS理论的负偏离。根据SAXS理论，负偏离校正前后的数据分别对应 胶团(胶体粒子)和胶核的粒度及其分布。在碱性催化条件下，随着TEOS的水解 和缩聚反应的进行，新核的生成和成核的生长同时进行，所得溶胶是在不同时刻生 成的晶核上长大的，所以形成多分散的溶胶体系，即溶胶粒度呈～定的分布。从粒 度分布曲线可求出平均粒度。 假如胶体仅由胶核和分散介质组成，其界面明锐，那就形成SAXS可测定的理想 的两相体系。但是本文所研究胶体体系的小角散射均不遵守Porod定理，而是表现为 负偏离(见表2)，根据SAXS理论可得知散射体系中胶核和分散介质之间的界面模糊， 存在扩散过渡层即界面层。 由于胶核粒子与分散介质之间存在电子密度差从而导致小角散射的产生。实际 上由于胶核粒子尺度处于纳米数量级，较小的几何尺寸、庞大的表面效应，将导致 很高的表面能，粒子必然吸附一定的介质以降低其表面能，从而形成一定的界面层， 这种