Ru基氨合成催化剂的H-%2c2--TPD与N-%2c2--TPD研究.pdfVIP

E．催化剂表征 893 Ru基氨合成催化剂的H：一TPD和N：一TPD研究 韩文锋霍超刘化章 (浙江工业大学工业催化研究所，杭州310014) 钌基氨合成催化剂被认为是继熔铁催化剂以来的第二代氨合成催化剂。国内外有关钌基氨合成 催化剂的研究十分活跃…。经过数年的研究，本实验室对钌基氨合成催化剂进行了广泛的研究，取得 了令人满意的结果…。 本文采用Hz—TPD和Nz—TPD手段考察了一系列钌基催化剂，并研究了各种助剂对H。、N。吸附 的影响。 l实验部分 1．1催化剂的制备爱活性评价催化剂制备采用等浸溃法。活性炭经过酸处理、洗涤、干燥后， 浸渍一定量的RuCI。，在110℃干燥，然后在200C氢气气氛中还原3h。还原后的样品再浸渍一定量的 助剂。干燥后即得催化剂样品。活性评价方法同文献o]。 1．2 1h，再以20C／min的升温速率程序升温至750C。尾气用热导池检测。 1．3 N：一TPD实验还原过程同上。还原后的催化剂先在400C用N。反应lh，然后切换为He 吹扫至50C，再在400‘C恒温吸附N。2h，降至50 序升温至750‘C。 2实验结果与讨论 2．I助剂对催化剂活性的影响实验结果列于表1。由表1可以看出，助剂是钌基氨合成催化 有活性，而K的加入则可大大提高催化剂的活性。因此，在本实验中，K是最为有效的助剂。 表1助剂对催化剂活性舳影响 Theeffectof activitiesofthe Fig．1 onthe catalyts promoters 注：测斌压力7MPa-2000h叫≠一表示未控出氨的生成。 为了进一步了解Ba、K助剂对Hz、Nz吸附的影响，我们进行了Hz—TPD、Nz—TPD实验。 以看出，Ru催化剂的HzTPD图大致有两个峰，一个低温峰和一个高温峰。通过实验我们发现，升温 脱附过程中的氢脱附量已远远超过了Ru金属量。因此，可以肯定，图谱中的高温峰是由于催化剂的 氢溢流引起的。图1(b)的结果也证实了这一点。在200C通人Nz反应后，高温峰并没有减少，说明高 温峰对应的吸附氢并没有加氮活性，它反而充当了毒物的角色，阻碍了N!的解离吸附。 Ru／AC催化剂的H。吸附量不大。在加入Ba促进剂以后，H：的吸附量有所提高，氢脱附峰温降低。这 894 可持续发展战略中的催化科学与技术 Temperature(1-) 图1 44催化剂吸附氢的加氯活性 图2不同催化剂的H。·TPD图 of absorbed fordifferent Fig．1Activity H2一TPDprofiles hydrogen Fig．2 catalysts on 44 catalyst 可能是因为Ba的加入，可使钉更加分散，从而防止了Ru 的聚集。或者是Ba的加入，改善了Ru的电子环境，降低 了H。的脱附性能。而K的加入则显著改善了H：吸、脱 附性能：H：的脱附量明显增加，低温H：脱附峰温从 288 C降低到166‘C，明显起到了一个电子助剂的作用。 图3为1。～44催化剂的N2一TPD图。从图中可以看 出，N2的脱附蜂在400℃左右。与H。一TPD类似，Ba、K 助剂的加入，使N：的脱附峰温向低温移动。特别是K的 加入(34催化剂)，使峰温从2“催化剂的420℃降到 Temperature(’：)