Na-%2c2-WO-%2c4--WO-%2c3--ZnO体系熔盐镀钨镀层织构和形貌的研究.pdfVIP

第18卷专+辑 中 国 稀 土 学 报∞∞年9月 型：!!!坚：望竺!! 丝旦型些竺里竖曼坚坚!坠望坠巴12兰里坚 塑：!竺 №—旧—r03一Zno体系熔盐镀钨镀层织构与形貌的研究1 马瑞新，胡广勇，周传华，李国勋，孙丽虹 (北京有色金属研究总院北京100088) 搬借助于(222)不完整极朋，详细研究了N叫仉—舯。一z肿熔盐件系中所获娉蕞层的织掏与形貌．结果衰明：降轧钼片基体的龊构为 (1 JO)／／助丝蚬拘，璺诅火后变为n】】)(Jlo)板甥鞠，这也是娉蕞层的蛔拘；彤貌研究表唧：镀层表面为撤麂不平整衰面，主要由f0】J) 晶面蛆成。 金属钨具有优异的物理一化学性能…，因而经常被用做热障材料、耐蚀／耐磨材料，尤其是其优异的耐 各种熔体，包括金属熔体、非氧化性熔体的性能．使金属钨的应用前景很大。但是，金属钨的硬度和脆性 均报高，难于进行常规的机械加工，同时，钨的储量稀少，具有重要的战略地位。因此百余年来，人们一 直在尝试用各种方法制各金属钨的表面层。其中电镀法因为成本低、易于实现而备受人们关注。 但是，实践证明口日：自水溶液及有机溶剂中．只能得到金属钨与铁族元素的合金镀层或钨青铜层． 而不能得到纯金属钨镀层。所以，制备金属钨镀层的电镀方法都采用熔盐电镀法。关于熔盐介质中电镀钨 的电解质体系．在文献【51中已有详细介绍。如文中所述，氧化物电解质体系具有对氧、水分不敏感的优点， 操作条件较为宽松，熔盐制备容易，适于规模生产，因而，在各种镀钨电解质体系中备受重视。 峨{03一zn0体系是氧化物熔盐镀钨体系的一种。该体系可以在敞口条件下进行电镀。本课题组已 经得到了自该体系中获得性能良好的钨镀层的最佳工艺条件[3，“。本文的主要目的在于阐明自该体系中所 得镀层的织构及与此相关的镀层形貌。 】霎骑 1．1试麓席棒及实麓方法 试验所用Na：w04、五Io及w03均为分析纯试剂；高纯半透明刚玉坩埚作容器：阳极钨片用工业品。 阴极为冷轧铝片。 的阴极电流密度，预电解至阴极上析出表面质量较好的钨镀层．然后，换上正常阴极进行电镀。电镀结束 后．将阴极迅速提出，淬入碱液洗去所沾的盐．用清水及去离子水冲洗干净，烘干．进行各种检测。 应该指出的是，因为实验过程是在空气气氛中进行的，因此，阴极钼片应尽可能快地放入熔体中，以 减小阴极的氧化。阴极放入熔体后，应静止3巧分钟以加热阴极，同时在此期间，阴极表面进行了某种 程度的退火。 1．2分膏讨蕾—手段 带有极图附件的xI pert衍射仪上进行。用铜靶的k射线(柏“4衄值)。 镀层的表面形貌及截面组织在普通光学显徽镜下进行：显示金相组织的腐蚀液配方为：29x2雕日D‰+ 29K伽+1009H20。 2结果及讨论 1奉文为田毫白拣科举基盘赉助项目．项目鼙号：57帅笛 作者俺舟：马璃新(19dL)．男，河北唐山，博士生．讲师 294 中国稀土学报 18卷 2．1期罄钵及其遇火后的织构 (轧向)，(222)晶砸的面法向从1ll方向散布到如叭方向。织构组分咀(111)ll∞为最多。 如前所述，当钼基体放入熔盐后，为使其温度达到工艺所要求的值，一般需要3到5分钟的时间。 在此时间范围内．钼基体实际上已经发生了再结晶，而且基体的晶体取向也发生了变化。图2为钼片在熔 盐中放置4分钟以后的(222)不完整极图。表明：经退火后，晶粒的110坊向仍然平行于轧向，但样品表 面主要由(001)面构成。因此，尽管所使用的基体是冷轧钼片．但电镀开始时，样品表面的实际织构为 {∞1)110x 厂●．■、＼、 》 ④ 图I冷轧钼片的(222)极图 图2退火后的钼片(222)极图 c等矗线高度为l，3j…●高为98) (等高线高度为1．3，5．量商为107) 址鹤饺层的炽构 钨镀层的(2篮)不完整极图如图3所示。该结果清楚地表明．钨镀层的织构与退火后的钼片织构一样 均为{111)1l∞t 镀层“继承”了铝基体的晶体取向．形成外延生长结构似乎是合理的。 为此，我们对钨镀层的组织结构进行了金相观察。图4为钨镀层的断面金相照片。可见，在wm|0 界面上，钼基体发生了部分再结晶过程，钨则在两相界面上进行了形核过程；