高效广谱紫外线吸收剂合丽亚UVPA对OMC和BMDM的光稳定作用研究.pdfVIP

高效广谱紫外线吸收剂合丽亚@UVPA 对OMC及BMDM的光稳定作用研究 张贵民博士陈淦高级工程师张又明高级工程师胡荣奎工程师 摘要：在模拟日光条件下高效广谱光稳定的纳米级苯三唑类紫外线吸收剂合丽亚UVPA对甲氧 稳定性显著提高。分析并探讨了其机理．研究对于防晒护肤品性能的提高及降低光降解产物对皮肤 的潜在刺激性具有实际意义．鉴于具有国际领先性和独立知识产权的合丽亚UVPA同时在W／O体系 中的高稳定性及使配方的易涂展性，其对于清爽抗水型防晒护肤品防晒性能的提高以及油相中其它 低稳定性防晒剂的稳定具有重要的作用和广阔的市场前景。 关键词：紫外线、紫外线吸收剂、光稳定性、光降解、纳米技术、苯三唑、甲氧基肉桂酸辛酯、 叔丁基甲氧基二苯甲酰甲烷、防哂剂、防晒霜、sPF值 一．引言 甲氧基肉桂酸辛酯(Octyl (ButylMethoxy 其分子结构如图1所示。OMC在300rim左右的主要导致人体皮肤晒红及急性晒伤的短波段紫外线区 损伤的长波紫外线区一即UVA区有较强的吸收，其紫外吸收光谱如图3所示。但是，由于其分子结构 的局限性，在紫外线能量的作用下，它们的分子有相当一部分被紫外线降解，使其防晒性能下降。 在这两种紫外线吸收剂中，尤其以BMDM的光稳定性较差。这是由二苯甲酰甲烷的结构所决定的，对 其机理己有许多的研究，在此我们不作进一步的讨论。被紫外线降解的OMC及BMDM会产生一系列 对皮肤有一定刺激性的光降解副产物。这些副产物对受日光照射时脆弱的人体皮肤还可能构成其它 潜在的威胁。因此，如果能提高这两种紫外线吸收剂的光稳定性，将对防晒护肤品的配方性能以及 消费者的使用产生积极的影响。 高光稳定性的紫外线吸收剂。其主要组份的分子结构示意图如图4所示。基于其分子结构中牢固的 N…H分子内氢键(IMHB)，使其能有效地将紫外线的光能转化成分子的振动能即热能而释放能量。 同时苯并三唑的空间位阻结构以及R基团的立体屏蔽作用都极大地保障了该分子内氢键的稳定性 及其分子骨架结构的牢固性。同时，其中一个分子吸收紫外线能量后基本不会进行分子间的光能传 播，其所吸收的紫外线的光能基本都转化成了分子本身的振动能。因此，UVPA具有优异的耐光稳定 性。研究发现…，在经过50MED的日光照射后，即在地球表面上夏季的一天中所能接受到的最大紫 外线辐射剂量，其活性物的光降解低于1％。 O ¨ 、 ，U 、。痧刈。丁一 1 || ] |l 【 OCH3 甲氧基内桂酸辛酪(OMC) 叔丁基甲氧基二苯甲酰甲烷0瑚叫) 图1．常用紫外线吸收剂OMO及BMDM的分子结构示意图 50∞ ∞∞ 窨o．Io量一搽幡装韶长鼙 O 2∞ 3∞ 3加 蛳 蛳 蛳 枷 伽 波长响 图2．OMC的紫外吸收光谱图 4 a a e．一j，I曩礞米鬟乓■ 2盈1蕾 雌舢帅洲腆沁舢姗o 280 300 3锄3加360 3∞400420 波长nlll 图3．BMDM的紫外吸收光谱图 UVPA 图4．高效光稳定的广谱紫外线吸收剂合丽亚o 主要组份的分子结构示意图