氩离子刻蚀还原氧化铜的XPS的研究.pdfVIP

第十二届全国青年分析测试学术报告会 2012年7月28-30日成都 氩离子刻蚀还原氧化铜的XPS研究 李晓莉1-2，谢方艳1，龚力1，张卫红1，于晓龙2，陈建1‘ 1中山大学测试中心，广东广州，510275 2海南大学材料与化工学院，海南海口，570228 E-maih pusq@mail．sysu．edu．cn 摘要：X射线光电子能谱(XPS)是一种分析物质表面(5nm以内)化学元素及元素化学状态 的表面分析技术。由于大部分样品在进行XPS分析前均处于大气环境，容易导致吸附污染。为测得样 品表面真实的信息，就必须对样品表面进行前期的清洁处理。常用的表面清洁技术是氩离子刻蚀技术。 低能氩离子束可将样品表面吸附的污染层除掉，起到表面清洁作用，而高能氩离子束可对样品表面进 行深度剖析，到剥离表面原子层的作用，。氩离子刻蚀可以改变多种化合物的成分以及化学状态。例 态的氧化物或金属态。由于在氩离子深度剖析中很难区分样品真实化学状态与氩离子刻蚀引起的还原 态之