热处理对电子束蒸发TiO2雕塑薄膜双折射性能影响.pdfVIP

第_fJ阴属全国凝聚惫光学性质学术研讨会(OPCM’2008)论文集 热处理对电子束蒸发Ti02雕塑薄膜双折射性能影响 肖秀娣，董国平，邓淞文，邵建达，范正修 上海光学精密机械研究所，201800 Ti02雕塑薄膜是…种具有光学各向异性的薄膜，经过退火可以优化薄膜的双折射特性和相位延迟性 90‘。退火是改善薄膜双折射性能的一种简单实用的方法。 1．前青 雕塑薄膜是一·种利用倾斜沉积技术制备的新型的功能薄膜，在光学【l-3】，化学【如51，生物学【6】，医学【6】 等领域有着广泛的应用前景。通过改变沉积过程中基片和夹具的旋转方式，可以得到各种形貌的雕塑结 构，如C形，S形，树枝形，之字形薄膜[71。在光学方面，倾斜沉积技术最大的特点就是可以用单一的材 料制备出折射率变化的，具有光学各向异性的薄膜。本文采用电二子束蒸发技术制备了具有斜柱状结构 Ti02雕塑薄膜，研究了其在不同的热处理温度和时间条件下，双折射特性的变化规律。 2．实验 2．1Ti02斜柱状雕塑薄膜的制备 三维运动控制装置【7J实现，本文中沉积的样品，沉积角均为70。，沉积过程中不加烘烤，沉积速率为 0．3仰以．薄膜沉积在双面抛光的熔融石英玻璃基片(巾30衄×3mm)上，镀膜前将基片用丙酮，酒精依次 超声清洗。制备好的薄膜在马弗炉中进行退火处理，样品处理条件及编号如表1所示。 表lTi02退火条件及编号 样品编号 AlA2 A3 A4A5 A6 B1 B2B3B3 B3 退火温度(℃) 一 3005007009001100300300300300300 退火时间(hourS)一 4 4 4 4 4 O．5 l 2 4 6 2．2 Ti02斜柱状雕塑薄膜的光谱测量及双折射值的计算 样品热处理前后的透射光谱和偏振光谱是在室温、正入射条件下，采用UVⅣis／NIR光谱仪(Pe岫卜 Lambda Elmer 200nm。 900)测量得到，光谱测量范围为300．1 利用折射率计算的包络法【9】得到不同偏振态的折射率，两个折射率的差值即为线性双折射值。 2．3Ti02斜柱状雕塑薄膜的相位延迟特性测鼍 样品的相位延迟特性是在室温正入射条件下，采用变角度的椭圆偏振光谱仪(w．VASE32TM)得到， 光谱范围为400-1000nm。 3．结果及讨论 图l为Ti02斜柱状雕塑薄膜的典型形貌图像【10】。从图上可以明显看出倾斜沉积的Ti02薄膜为斜柱状 结构。这主要是由于薄膜沉积巾的阴影效应和较低的原子扩散速率导致的。正是由于倾斜沉积的斜柱状 结构的存在，薄膜在0度入射的偏振透射光谱中呈现光学各向异性，如图2所示。沉积薄膜在0度入射的 p光和s光的透射光谱明显分开，显示出一定分偏振特性，经过热处理后，p光和s光的透射光谱分离更 加明显。通过拟合不同热处理温度偏振谱，得到了Ti02斜柱状雕塑薄膜线性双折射值随热处理条件变化 的图谱，如图3和图4所示。Ti02薄膜的双折射值随着热处理时间的延长先增加后逐渐趋于饱和，随着 热处理温度的提高先增加后减小，出现最佳的热处理温度为500℃。薄膜双折射性能的变化是伴随着物理 结构和化学结构的变化相联系的，从SEM的断面图，可以得到薄膜的厚度随热处理变化规律，如图5所 示。 镕r口月々目《R女№}性质}术Ⅱ讨会(0PcM+20％)论文* 具有光学辑向异性的薄膜最简单的应用就是作为柑位延迟片，作者用可变角度的椭偏仪测试了A3样 品的相位延迟特性，发现样品在s50nm处相位延迟量达90‘．说明该薄膜已经足以作为lH波片。如粜选 择合适的薄膜厚度，调节沉积调节．町咀制备出具有不同相位延迟性能的薄膜。 0 e 12————r—] §