有序金属纳米线阵列AFM研究.pdfVIP

有序金属纳米线阵列的AFM研究’ 姚建林‘，汤做‘，潘谷平。，薛宽宏6，任斌‘，毛秉伟‘，田中群。 (1厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室，化学系厦门361005) (“南京师范大学化学系南京210097) 摘要电化学样模合成法是制备有序全属纳米线阵列的重要方法．本工作采用电化学及非电沉 积的方法在氧化铝模板中沉积了各种不同的金属，利用酸或碱溶解除除氧化铝后得到各种金属 的纳米线．采用原子力显微镜现察逐步溶解样模过程中纳米线阵列表面形貌的变化规律． 关键词蚺米鲁，原子力显微譬，模板合成 U 。 、‘ 1．引言 纳米材料的制备和性质研究是当前化学和物理等领域中的热点【1．6】。例如，一些纳米尺度 的金属表现出极高的催化活性；一些低维的半导体纳米点(零维)、线(一维)、面(二维)材料被认 为在信息工业中将占有举足轻重的地位。最近有关金属和半导体纳米线的研究正在兴起，其特 殊的电学和光学性质引起了广泛{》∈趣。迄今为止，已有众多物理和化学的方法及技术用于纳米 材料的加工及制各，其中大部分方法无法实现控制粒子尺寸以及排列方式，而且对制各的要求 比较高。因而探索如何制各尺寸和分布可控的纳米结构一直是纳米材料科学的研究热点。模板 · 合成法的特点是先选择特定的样模．然后将一定的材料注入，从而获得所需尺寸和结构的纳米 材料．目前被选用的样模材料主要有高分子材料，多孔氧化铝．微孔玻璃．碳管等。其中采用 两步阳极氧化法可在基底铝表面生成具有二维有序氧化铝纳米孔的薄膜．用它作为样模具有以 下几方面的优点：首先其孔径处于纳米尺度．分布均匀；其次通过改变条件(如控制氧化电位和 时间等1可以方便地控制孔的直径．深度和分布密度，从而获得所需尺寸和结构的纳米材料；而 且可以在孔中沉积各种金属．半导体等材料，如果用酸或碱溶解除去部分氧化铝层即可以得到 金属纳米线阵列。本工作主要运用以上方法制各了一系列的金属纳米线，并用原子力显微镜 (AFM)表征了在不同的溶解阶段金属纳米线的形貌。 2．实验方法 金属纳米线阵列通过多孔氧化铝模板制得．具体的制各方法参见文献[7】．通过控制铝氧化的电 位来制各不同直径的氧化铝纳米微孔．利用交流沉积方法在氧化铝纳米孔中沉积所需金属，然 后用酸或碱溶解除去部分氧化铝层即可以得到直立于表面的金属纳米线阵列·AFM图象的记录 ． IIIa(Digital 在Nanoseope Instruments)扫描探针显微镜上进行，采集方式为轻敲模式。 3．结果和讨论 模板合成法的特点决定了在金属纳米线与基底铝之间存在一层不导电的致密的氧化铝阻 挡层，其形貌如图l所示。从图可见，在基底铝表面生成一层较为平整的膜。在膜的底部均匀 且连续分布着一个个的突起，其直径约80．100nm，而每一个突起对应于一个纳米微孔。由于突 ‘国家自然科学基金和国家重点基础研究发展规划项目基金资助 通讯联系人：田中群 310 起包含了微孔壁的厚度，因此微孔的实际尺寸较所观察到的突起的直径小。当往微孔中沉积一 定的金属且溶解部分氧化铝后得到如图2所示的纳米线。当部分氧化铝层被溶解后(室温下用 5％H口O．溶解，时间约20 min)，表面变得较为有序，且清晰可见其相互平行，应当指出的是， 由于AFM针尖具有的锥形结构所限制．不能垂直地深入到较长的、相互紧密排列的纳米线阵 列的底部，因此本实验中的AF／vl图象所给出的纳米线的形状和高度皆有一定的误差和变形。 目前有关利用多孔三氧化铝膜作为模板来制各纳米金属的研究中．溶解过程中金属纳米线 是否仍然直立在基底铝的表面一直是争论的焦点，采用扫描电镜(SEM)无法直接观察到三氧 化铝溶解过程中沉积在孔洞中的金属形貌的变化。我们用AFM研究了逐层溶解后铜纳米线的 形貌(如图3a,b所示)后发现，当一定直径的金属纳米线露出表面的高度适中时才能直立于表 面，随后纳米线将逐渐坍塌而在表面聚集形成岛状。从圈3a可见，在起始阶段表面有一些明 显的突起．露出表面部分的高度约为80nlTl，分布亦较均匀，这些突起极可能是铜