微光成象器件研究中极高真空设备.pdfVIP

微光成象器件研究中的极高真空设备 西安应用光学研究所二室 徐江涛 {鹰要：根据三代微光成象器件的研制和管子批量生产的需要，全面系统的介绍～种极高真空设备， 国内设备开发成功，将可带来可观的经济和社会效益。 关键司：微光成象强高真空 批量生产，pL、1 随着微光成象器件的发展，对真空系统的真空度和功能要求越来越高，极 高真空系统是专供研究和生产微光夜视器件的关键设备。国外80年代中期就 已用于批量生产微光器件。而国内至今只是在实验室用超高真空设备试验研 究。实用极高真空设备还处于空白，为满足“十五”三代微光管批量生产要 求，急需实用的国产极高真空设备，为促进真空科技的发展，现将已了解到 的和已使用的极高真空设备状况及功能要求作以介绍，以便能引起国内真空 设备生产厂家的重视并对促进真空设备的发展能有帮助。 二、设备的功能与总体指标 对于第三代微光成象器件研究和生产所用极高真空设备，因要制备GaAs 负电子亲合势阴极要求设备必须全无油，设备极限真空度必须在2X10“1Pa。 为满足制管需要对设备的功能和总体指标要求分别如下： 2．1设备功能 2．1．1可实现三代微光器件的批量生产，一次可装管8一12只(附结构 图) 2，1．2设备具有样品传递交接，旋转、定位功能。 2．1．3设备具有扩散压力封接功能。 2．1．4设备具有电子清刷功能。 2．1．5设备排气烘烤全部实现自动控制，并真空温度可互锁。 2．2设备关键总体指标 2．2．1主室、阴极激活室、压封室极限真空优于1．5×10“oPa。 2．2．2设备耐400℃48小时高温烘烤，并保证设备所有观察窗不炸裂。 2．2．3极限真空必须从验收开始抽低真空起在48小时内达到。 2．2．4设备必须安装质谱计。 2．2．5能观察荧光屏亮度。 三、各工作室功能及要求： 恂4 3．1进样室是专供装GaAs阴极组件而设计的。它要求一次可装8一12只 组件，主要是对组件进行预真空处理，有操作手，观察窗，样品架这个室要 求装样品后真空度在30分钟内达到3×10-6Pa，有放气阀，预真空要求用无 油机械泵，主泵为离子泵。 3．2阴极制备室 这是阴极高真空设备的主要关键真空室，它的功能要求有：可对阴极组件 加热700℃，能安装四极质谱计，可进行阴极传递交接，有磁力传递杆：，能 安装铯、氧源、真空计，能测阴极加热温度，有过程自动记录功能，有白宝 石光窗(020)。这个室通常不暴大气。泵和室间有闸板阀。主要为离子泵。 10～Pa． 同时配有加LN2的Ti升华泵，工作室的真空制各阴极时不低于6x 极限真空度要求不低于3×10_10Pa，要求绝对无碳污染。 3．3MCP电清刷、压封室 此室是制管的关键室．功能要求有：对MCP能进行电子清刷．能装8—12 只管子，管子最高电压为5KV。．一次同时可清刷3—4只管子。室内有内红 外灯加热源，最高加热温度550℃。要求能进行管子压力封接，最大压力 800kedmm2有压力监测显示器，能监测施压过程中行程尺寸，装有千分表。 通常施压方式分手动旋转和油液施压两种，真空度测量用四极质谱计和极高 真空规两种并存，此室压封时，真空要求高于5x10～Pa，极限真空要求在48 小时内达到3×1010Pa。 3．4非空气接触箱 它是专门进行GaAs进台前的表面氧化预处理用，整个箱不允许有漏气和 不耐腐蚀的金属存在。它是用耐酸、碱侵蚀的塑料制成。工作时箱内完全充 满氮气，不用时充氦保护。 3．5管壳组件送样室和预处理室 这两个室是专门进行大批量管子生产时才使用，一般实验室研究阶段不需 这两个室，它是和压封室兼容的。目的主要是为了提高管子生产成品率。它 们的真空要求和压封室是一样的。 4。、国内外成象器件专用设备的比较 从我们调研的结果看，目前国内外成象器件制管设备分别有：2、4、6、8、 12公位五种