反应烧结碳化硅作为反射镜材料地研究.pdfVIP

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2017-08-14 发布于安徽
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反应烧结碳化硅作为反射镜材料的研究郝寅雷赵文兴中胃辩学酶长春光学精密机挂研究所．膏囊：13呻盟) 摘要 i 10的碳化硅复相陶瓷．XRD分析表明它由n-SC、p— 用反应烧结法制备了中70x SiC、S i三相组成：这种材料经光学加工后可以得到反射性能怠好的光学表面。这种表面硬度较大，具有很好的耐擦伤能力：并且，在整个样制备过程中，样品尺寸变化小于1％。上述结果表明： SiC是一种颇具应用前景的反射镜材料．关键宇：反应烧结碳化硅反射镜一、前言众所周知，碳化硅具有低密度、高刚度、低热膨胀率、高热导率等优良特性，见表1，是一种很有应用前景的反射镜材料．表1几种反射镜材科的性能比较 Parameter Units A1 Be a豫AI?润j 皿E Desired SiC Value P，Density g／cms 2．7l 1．85 2．95 2．2l Low SModulus GPa 68．3 303 364 67．6 High E，Young v。Poisson·；Ratio 0．33 0．07 O．14 0．07 Low a，Thermsl PPm／℃ 22．7 11．4 2．44 O．01 Low Expension UniformityPpb／℃ 100 100 30 10 Low Act，CTE W／m℃ 156 216 172 1．31 砒gh Conductivity K，Thermal Heat K／kg℃ 879 1925 670 766 Low Cp，Specific Stress ^舻a 124 12 70 7 High o，Design Stiffness 25 164 123 31 High E／p。Specific I【N1／g 0／P，Stress N1／g 46 6．5 24 ， 3．2 High Loading Gradients 6．9 19 70 131 K／a，Thermal 姗／m High StressNW-m／N101 63 194 193B Z／eE，Thermal high 从本世纪八十年代开始，世界上许多国家的研究者开始分别采用各种不同的方法试图用 ofOptical 这种新型反射镜材料制做反射镜．比较著名的有美国的UTOS(UnitedTechnologies S．总的来看，用于制傲SiC反射镜的 2m，面密度可做到10kg／m2，表面光洁度lO矗RM 方法可以分为三类：化学气相沉积法、热压或热等静压法和反应