DMF中电沉积La-Ni合金地研究.pdfVIP

F018 DMF中电沉积La—Ni合金的研究 王久林，安茂忠，孙德智 (哈尔滨工业大学应用化学系，哈尔滨，150001) 现代电沉积技术较为重要的研究方向是应用电沉积方法制各功能性薄膜材料¨d】，而大 多数功能材料基本上都是由一种或几种稀土元素再与ca、、Fe、co、Ni、cu、zr、Ti等元 素组成合金。稀土元素相当活泼，在水溶液中，如La的标准电极电位为．2．522v，La和Nl 两种金属的标准电极电位相差2．27v，在水溶液中很难甚至不能实现二者共沉积。在有机 溶剂中，La和Ni的标准电极电位虽不清楚，但有关有机溶剂中电沉积稀土金属的报道不 少，La和Ni在有机溶剂中共沉积是可能的。故本次实验试图从镀液体系的最基本条件一 溶剂出发，。用有机溶剂代替水溶剂，来实现La—Ni合金共沉积。 在有机溶剂中电沉积．体系的确定十分关键，这尤其体现在溶剂的选择上，所选的溶 剂既要对电解质具有较好的溶解能力。又要具有较弱的络舍能力，才利于阴极电沉积，这 也是有机溶剂电沉积中自相矛盾的要求。通过对比实验，确定了N’N．二甲基甲酰胺(DMF) 作为溶剂．由于稀土硝酸盐在有机溶剂中溶解性好．易形成较稳定的络合物．故实验中选 实际是催化Ni“离子在阴极上放电，因为同样条件下加入氨三乙酸调节pH值，却得不到 金属镀层。 有机溶剂中电沉积与水溶液中电沉积较大的区别之一是，有机溶剂中络合剂的作用极 易受溶液中其它离子的影响。由于其它离子的影响，同一种络合剂对电沉积可能起催化作 用也可能起阻碍作用【4】。实验中研究了十几种络合剂对电沉积的影响，结果发现部分络台 剂的影响规律同水溶液电沉积，而部分络合剂的影响与水溶液中的情况刚好相反．可见水 溶液中的络合物理论在有机溶剂中不全适用。通过考察各种络合剂的影响．优选出了效果 较好的络台剂wl，它可将镀层中La的含量提高4—6倍，接近25叭．％，而镀层的外观变 化不大。wl在DMF中溶解性差．但易在阴极上吸附，阻碍02或02’离子在阴极上吸附， 从而改善体系的导电性，其作用类似于表面活性剂。并且它还可以较大幅度地提高Nicl， 在DMF中的溶解性，起到增溶剂的作用。 在研究La-Ni合金拱沉积时．采用五因素四水平的正交实验设计方法，考察了主盐浓 度c。i2+和c。．h溶液的pH值、温度和电流密度等因素对镀层中La含量的影响程度。结 果发现，溶液中Ni2+离子的浓度对镀层中La的含量影响最大，其它几个因素对其也有一 定的影响，并且影响程度相当。在正交实验的基础上，分别对CNi：ncI．3+、以、RpH和 基体材料进行了单因素实验。实验结果发现镀液中c蜉+越低，镀层中La的含量越高，但 考虑到镀液的稳定性，c。．z+确定在O．05mol／L左右：c。。”的影响趋势有一个最佳值，为 3—4、络合剂w1(饱和)。 0．2mol几；同样，其它工艺条件确定为以o．6A／dm2、丁50℃、pH 基体材料方面发现用经过HCl+F‘活化后的钛作基体，得到的镀层外观较好．并且La含量 高：纯铜基体得到的镀层与钛基体比起来，只是La含量略有降低：不锈钢和黄铜基体得 到的镀层外观十分好，但La含量低，尤其是前者更甚。 对镀屡进行xRD分析表明，La-Ni含金镀层为非晶态，与文献中报道的电沉积得到的 F018 稀土．铁系合金为非晶态的结论相一致Ⅲ。而在其它条件不变的情况下得到的纯Ni镀层为 晶态，可能是因为La原子半径比Ni大，形成合金时Ni原子晶格常数增大甚至被破坏。xPs 分析表明La-Ni合金镀层中大部分La以LaH，的形式存在，因为电沉积过程中阴极有氢气 析出，而La为强吸氢金属．极易与氢形成金属间化合物：部分以金属La存在：极少部分 La以氧化物形式存在，这可能与溶液中存在残余氧有关。合金中Ni以金属态形式存在。 对La-Ni合金镀层进行sEM分析发现，合金镀层表面比纯Nj镀层表面粗糙，并且晶粒较 前者大得多，这说明有关形成非晶态的解释较合理。台金镀层表面较均匀的分布着一些暗 点，暗点周围存在一圈亮环，用能谱分别对暗点和亮处进行点分析表明．暗点为高La含 量区，高达93叭．％．而亮处基本上为纯镍。关于台金镀层中金属的这种分布状况还有待于 进一步研究。 实验中采用微电极