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吸附相反应技术制备MnOxCeO2SiO2催化剂及其低温选择性催化还原NOx.pdfVIP

吸附相反应技术制备MnOxCeO2SiO2催化剂及其低温选择性催化还原NOx.pdf

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吸附相反应技术制备MnOxCeO2SiO2催化剂及其低温选择性催化还原NOx.pdf

物理化学学报(WuliHuaxueXuebao) July Acta尸 .一Chim.Sin.2014,30(7),1303-1308 l303 [Article] doi:10.3866P/KU.WHXB201405062 www.whxb.pku.edu.cn 吸附相反应技术制备MnO√CeO2,SiO2催化剂及其低温选择性 催化还原NOx 高琳心’ 蒋 新 郭 森。 (浙江大学化学工程与生物ST_程学系,杭州310027; 浙江大学环境与资源学院,杭州310058) 摘要:采用吸附相反应技术制备得到了MnOJCeOJSiO催化剂,通过X射线衍射 (XRD)、透射电子显微镜 (TEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、紫外激光拉曼(Raman)等手段对催化剂进行了表征.HRTEM分析表 明活性组分MnO与CeO:都均匀分布在载体SiO表面:XRD分析表明Mn。O特征峰随着CeO含量的增加逐 渐减小至完全消失,CeO 的加入降低了MnO的结晶程度,增加了MnO的分散性:Raman光谱表明催化剂表 面的Mn离子能够进入CeO 晶格,激发出空穴氧,随着CeO 负载量的增加,催化剂氧空穴浓度先升高后降低. 以NH。为还原剂,考评催化剂的NO低温选择性催化还原(SCR)性能,催化剂催化活性随CeO负载量增加先升 高后降低,与催化剂氧空穴浓度变化规律一致。说明催化剂活性受氧空穴浓度影响,氧空穴浓度升高,催化剂催 化活性升高. 关键词:MnOJCeO /Si02催化剂: 低温:选择性催化还原 氧空穴:吸附相反应技术 中图分类号: 0643 MnO】f,CeO2,SiO2CatalystsPreparedbyAdsorptionPhaseReaction TechniqueforSelectiveCatalyticReductionofNO atLow-Temperature GAo Lin.Xin’ JIANGXin’, GUO Sen fDepartmentofChemical&BiologicalEngineering,ZhejiangUniversity,Hangzhou31002Z R.China CollegeofEnvironmentalandResourceSciences,Zh~iangUniversiyt,Hangzhou310058, R.China) Abstract: MnO CeOgSiO2catalystswereprepared bytheadsorptionphase reactiontechniqueand werecharacterizedbyX-raydiffraction(XRD),transmissionelectronmicroscopy(TEM),high-resolution transmissionelectronmicroscopy(HRTEM),andRamanspectroscopy.HRTEM showedthatMnO and CeO2particleswereuniformlycoatedonthesura『ce0fSiO2,TheXRDspectrashowedthattheintensityof theMn3O4diffractionpeaksgraduallydecreasedandthencompletelydisappearedwiththeincreasmentof the CeO2content,which indicated thatCeO2reduced the crystallinity ofMnO and improved the dispersibilityofMnO .RamanspectroscopyindicatedthatMnionsonthesurraceofca

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