交流电弧沉积TiAlN涂层性能地研究.pdfVIP

—— 一笠三星盘亟王堡旦堕金丛迨圭苤 !堕 交流电弧沉积TiAlN涂层性能的研究 西北有色金属研究院(721014)李争显 摘要交流电弧离子镀技术与直流电弧离予镀技术相比有涂层无’一液涡”、可沉积涂层品种多等许多优点．t，5—1。；t一· 化性能均优于Tic和1’N，潦层中A1的含量越高涂层的抗氧化性能就越好在塑料模具上沉栅iAlN涂层可以提高模具寿钔3侣． 关键词交流电弧TiAIN涂层性能 l刖吾 出(111、晶向问趼，逍而计算晶格常数约为0 的结构中，Al原r半径为0 直流电弧离子镀技术已经广泛地用于盎属材料表面改性的 143nm，Ti原子半径为0146nm，因 许多方面，这种r艺能沉积TiN、HfN、ZrN等超碗涂层，可以 提高刀具、模具等的使用寿命。随着涂层廊用范同的不断打 变，使晶面f日J距、减少，彤成TiAIN。由于Al原子置换TTi原子， 大，人们埘涂层提出了更高的要求．于是最近…耻rIiAIN、 目i以，liAIN点阵常数I血YiN的0 由r TiZrN、ZrAIN以及TiltIN等多元涂层材料。这些多儿涂E利十：I 在降能上均优于TiN等单元涂层材料。多元凉层村是涂层材判 麓展的必然趋势。但是，以前的沉积方法无法制备出性能稳定 一定范围内变化，其r【ixA／(1-x)N的xij在0l～O?肉变化， 的多元涂层材料。本文主要介绍交流电抓沉积的FiAIN涂层性 。j 3增加到0 A1的含量(卜x)由O 能的研究成果。 色由金黄色向抹黑色变化， 2．涂层沉积条件 涂层是在自制的交流电抓离子镀膜机上沉积的，沉秘条件 - Z 为： 氯气分压：吼=5～0．SPa 00 靶Jt寸：钛靶中60、谓靶中1 l一件偏压：Vs=0--500V ，件温度：T=300℃～350℃ 1件村料：高速钢 70。I’ “Jr 50-p 4ll’(’ 圈1X射线柏结构分析曲线 3检测结果与分析 3．2TiAIN涂层的硬度和耐磨性 3．1TiAIN涂层的组织与结构 用Hx—l艟微硬度计对不同工岂条件下的，IlAIN蜍层测量其 用PSEM一500xjtl描电子昆微镜观察涂层的彤貌组织，可以 看出：涂层的表面看不到蒙直流电弧离严镀涂层表面那样的”液 滴”出现，涂层表面的反光性好。当Vs0V时，品粒呈杜j状并倾 斜躺在表面上，晶粒尺可比较大，平均约为】uin，排列疏松， 滁层的硬度高。用MM-200型磨损试验机测量涂层的J|_H謦性， 2u 空隙较大。当Vs=500Vn寸，晶粒尺、J细小，约为0in，并“ 把有TiAIN@,层的试样在磨损试验机上磨损～个小叫厉，测量 排列致密，空隙小。J／目PSEM，500X扫描电了最i：{4镜观察涂层的 溶层的孵损量其结粜如表I所示。由表c_可以看出：在具有相同 断面形貌发现：TiAIN涂层的组织是细纤维状，类似TTiN潦 层，但是，存同等条什下TiAIN涂层的组织较FiN细小。I=}ix利