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4A
第29卷第4A期 计 量 学 报 V01.29,No
2008年9月 ACTAMEⅡt0IoGICASINICA
纳米膜厚的量值溯源初探
崔建军, 高思田, 杜 华, 卢明臻, 施玉书
(中国计量科学研究院,北京100013)
摘要:概述当前国内外纳米材料结构膜厚参数的计量现状,针对我国目前纳米膜厚尚未建立计量溯源体系,提
出一种可实现纳米膜厚的量值溯源的途径。首先选择X射线衍射仪(XRD)作为纳米膜厚的计量标准装置,再研制
带有台阶的膜厚校准样板,样板经过计量型原子力显微镜检定后,可以校准XRD,从而实现纳米膜厚的量值溯源。
还对纳米膜厚校准样板的研制和XRD的计量性能进行初步探讨,为建立我国纳米膜厚测量标准和纳米膜厚测量方
法标准化提供技术准备。
关键词:计量学;X射线衍射;纳米膜厚;纳米计量;量值溯源;计量型原子力显微镜;纳米标准
中图分类号:TB921 文献标识码:A 文章编号:1000.1158(2008)4A-0160-04
on Fi|mS
ofNano
PreIiminaⅣStudyTraceability
ThicknessMeasurement
CUI GAO SHIYu—shu
Si—tian,DUHua,LU
Jian-jun, Ming-zhen,
Instituteof
(National 100013,China)
Metrology,Beijing
oftlle
Abstract:ThesituationllanofilmsthicknessmeasurementiS tIle of
present described.Nowadaystraceabilitysystem
nanometerfilmsthicknessmeasurementisstillnotbuiltinChina.sohowtofindone toTealizethe ofnaNofilm
way traceability
thicknessmeasurementiSdiscnssed.Atfirst,thediffractometer(XRD)iSusedastllestandardinstallmenttomeasurenano
X-ray
filmthickness.thena thenanometerfilmthickness was cancalibrate
calibration
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