纳米膜厚的量值溯源初探.pdfVIP

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4A 第29卷第4A期 计 量 学 报 V01.29,No 2008年9月 ACTAMEⅡt0IoGICASINICA 纳米膜厚的量值溯源初探 崔建军, 高思田, 杜 华, 卢明臻, 施玉书 (中国计量科学研究院,北京100013) 摘要:概述当前国内外纳米材料结构膜厚参数的计量现状,针对我国目前纳米膜厚尚未建立计量溯源体系,提 出一种可实现纳米膜厚的量值溯源的途径。首先选择X射线衍射仪(XRD)作为纳米膜厚的计量标准装置,再研制 带有台阶的膜厚校准样板,样板经过计量型原子力显微镜检定后,可以校准XRD,从而实现纳米膜厚的量值溯源。 还对纳米膜厚校准样板的研制和XRD的计量性能进行初步探讨,为建立我国纳米膜厚测量标准和纳米膜厚测量方 法标准化提供技术准备。 关键词:计量学;X射线衍射;纳米膜厚;纳米计量;量值溯源;计量型原子力显微镜;纳米标准 中图分类号:TB921 文献标识码:A 文章编号:1000.1158(2008)4A-0160-04 on Fi|mS ofNano PreIiminaⅣStudyTraceability ThicknessMeasurement CUI GAO SHIYu—shu Si—tian,DUHua,LU Jian-jun, Ming-zhen, Instituteof (National 100013,China) Metrology,Beijing oftlle Abstract:ThesituationllanofilmsthicknessmeasurementiS tIle of present described.Nowadaystraceabilitysystem nanometerfilmsthicknessmeasurementisstillnotbuiltinChina.sohowtofindone toTealizethe ofnaNofilm way traceability thicknessmeasurementiSdiscnssed.Atfirst,thediffractometer(XRD)iSusedastllestandardinstallmenttomeasurenano X-ray filmthickness.thena thenanometerfilmthickness was cancalibrate calibration speci

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