核级不锈钢焊接接头钝化膜耐蚀性能和半导体特性研究.pdfVIP

第49卷第2期 原 子 能 科 学 技 术 Vo1．49，NO．2 2015年2月 AtomicEnergyScienceandTechnology Feb．2015 核级不锈钢焊接接头钝化膜耐蚀性能 和半导体特性研究 辛长胜 ，王 辉 ，海正银 ，胡 勇 ，蔡 敏 ，陈 (1．中国原子能科学研究院 反应堆工程研究设计所 ，北京 102413； 2．环境保护部 核与辐射安全 中心 ，北京 100082) 摘要：采用电化学阻抗谱(EIS)、场发射扫描 电子显微镜 (SEM)、Auger扫描能谱仪 (AES)以及容抗测试 技术 (M—S曲线)，研究了316LN／316L不锈钢焊接接头在模拟压水堆一 回路高温高压水 中形成 的钝化 膜 的耐蚀性能和半导体特性 。结果表明，焊缝区、热影响区和母材 区形成 的钝化膜 的耐蚀性能不 同，热 影 响区钝化膜开路 电位及 电化学阻抗等均低于其他区域 ，说 明热影 响区钝化膜的耐蚀性能最差 ，这主要 与钝化膜的致密程度 、厚度及 Cr氧化物 的含量有关 。M—S曲线表 明，母 材 区钝化膜平带 电位 为 一 0．7V，较其他 区域 (一0．4V)负移 ，表 明有 BO；等阴离子在钝化膜表面吸附，加之具有较低的施主和 受主浓度 ，可排斥侵蚀离子 的腐蚀 ，使之较其他区域有更强 的耐蚀性能 。 关键词 ：316LN／316L不锈钢 ；焊接接头 ；钝化膜 ；电化学 阻抗 ；耐蚀性能 ；半导体特性 中图分类号 ：O646；TL341 文献标志码 ：A 文章编号 2015)02—0316-08 doi：10．7538／yzk．2015．49．O2．O316 StudyonCorrosionResistanceandSem iconductorProperty forPassiveFilm ofNuclearGradeStainlessSteelW eldingJoint XIN Chang—sheng ，W ANG Hui一 ，HAIZheng—yin ，HU Yong ， CAIM in ，CHEN Tong (1．ChinaInstituteofAtomicEnergy，P．0．Boz275—53，Beijing102413，China； 2．NuclearandRadiationSafetyCenter，M inistryofEnvironmentalProtection，Beijing100082，China) Abstract：Thecorrosionresistanceand semiconductorpropertyofpassive film formed onthesurfaceofweldingjointof316LN ／316Lstainlesssteelinsimulatedhightempera— tureand high pressureprimary waterofPW R wereinvestigated through EIS，SEM ， AESandMott—Schottkymethods．Thetestresultsshow thatthepassivefilmsformed onweldmetal(W M )zone，heataffectzone (HAZ)andbasemetal(BM )zonehave differentcorrosion resistance properties．Both theopen circuitpotential (OCP) and electrochemicalimpedancevaluesofpassivefilm formedonHAZarelowerthanthatof theotherzones．ThisshowsthatHAZpassivefilm hastheworstcorrosionresistance． 收稿 日期 ：2013一