氢等离子体作用下的Zr薄膜氢化特性研究.pdfVIP

第 38卷 第 9期 金 属 学 级 Vol_38 NO．9 2002年 9月 979—982页 ACTA METALLURGICA SINICA Sept．2002 PP．979—982 氢等离子体作用下的 zr薄膜氢化特性研究 木 施立群 晏国强 周筑颖 胡佩钢 f复旦大学现代物理研究所，上海 200433) 罗顺 中 丁 伟 (中国工程物理研究院核物理与化学研究所，成都 610003) 摘 要 本文研究 Zr薄膜在等离子体作用下的氢化特性．测试表明，与分子氢相比，氢等离子体作用下氢化速率明显增高，在 室温和 ≈2Pa氢压的DC放电条件下，氧化 i0min样品的氢化浓度可达饱和值，即66．67(原子分数，％)，远大于该压强下 的气体氢化浓度．在非超清洁系统中，等离子体氢化在样 品表面产生大量的氧污染和少量的碳污染．少量的表面氧化物并不阻碍等 离子体氢化，但随着污染的增加，氢化浓度却大大减少． Ni对样品表面氢分子解离吸附和氢原子再结合逸 出有着不同程度的催化 作用，在低的放电压强和放电电流下，表面镀 Ni使 Zr的稳态氢化浓度减小；而在高压强、低电流下，表面镀 Ni可增加 Zr的 氢化效率． 关键词 Zr薄膜，氢化，等离子体 中图法分类号 053，0484 文献标识码 A 文章编号 0412—1961(2002)09—0979—04 INVESTIGATIoN oN THE HYDRoGENATIoN PRoPER． TIES oF ZrFILM S IN PLASM A ACTIoN SHILiqun。YAN Guoqiang。ZHoU Zhuying。HU Peigang Applied Ion Bearn PhysicsLaboratory，InstituteofM odern Physics，Fudan University，Shanghai200433 LUO Shunzhong．DING w ei InstituteofNulearandChemistry,ChinaAcademyofEngineeringPhysics．Chengdu 610003 Correspondent：sHILiqun Teh (o21165642292。Fax：(o21165642787。E—mail：Lqshi@fudan．eduan SupportedbytheUnitedFoundationoftheNntionalNaturalScienceFoundationofChinaandChina AcademyofE孔gineeringPhysicsunderGrant(No．100760031 M anuscriptreceived2001一10—08．in revised form 2002—02—28 ’ ABSTRACT ThehydrogenationpropertiesofZrsampleswithandwithoutNioverlayerinplasma actionwereinvestigatedusingnon-Rutherfordbackscattering(non-RBS)andelasticrecoildetection analysis(ERDA)．Thetheoreticalmaximumhydrogencapacity，66．7(atomicfraction，％)，Wasalmost attainedwhenthesampleWas hydridedatahydrogenpressureof≈2Paandasubstratetemperature of393K for10m in．ThisreactionrateiSsignificantlygreaterthanthatforgashydrogenation under thesamehydrogenpressureandsubstratetemperature．Itwasfoundthattheabsorptionofhydrogen iSr