X射线荧光层析成像中消除散射光的方法.pdfVIP

第23 卷 第4 期 光 学 学 报 Vol.23, No.4 2003 年4 月 ACTA OPTICA SINICA April, 2003 文章编号: 025322239(2003)0420385205 X 射线荧光层析成像中消除散射光的方法* 谢红兰 高鸿奕 陈建文 陆培祥 徐至展 ( 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海201800) : 介绍了X 射线荧光层析成像技术 成像原理及其在微量分析领域中 应用。针对X 射线与物质相互作用 时, 不仅产生荧光, 而且会产生各种散射光, 为消除这些散射光对成像结果 影响, 提出采用在与入射X 射线垂直 方向放置一个圆环状 晶体单色器, 即双聚焦模式晶体单色器, 使荧光与各种散射光分离, 并聚焦在探测器上。这 样不仅大大增强了荧光信号 强度, 而且可使荧光探测器小型化。 : X 射线光学; X 射线荧光层析; 晶体单色器; 同步辐射 中图分类号: O434114; TH742. 63 文献标识码: A 1 引 言 征谱线, 其强度与该元素在样品中 含量成正比。因 此, 利用X射线荧光, 对样品进行三维层析成像就可 在过去 几十年里, X射线成像技术在显微领域 以得到样品 元素组成含量及其在样品内部 分布 起着非常重要 作用。人们已经能够使用这种成像 情况。实验研究证明, X射线荧光层析成像技术在获 技术观测到空间分辨率达到纳米量级 生物样品。 取生物组织、工业材料等物质中元素 组成、分布信 而且X 射线成像技术也在不断地发展着。一方面, 传 息方面是可行 。最近, X射线荧光层析成像技术已 统 基于吸收衬度 X射线成像技术在某些领域(如 - 9 经能够分辨出10 g 元素含量, 其元素 空间分布 对轻元素样品成像) 正在被各种基于相位衬度 成像 [6] 分辨率达到微米量级 。 技术所代替, 因为它们能提供更高 成像衬度, 并且 在进行X 射线荧光层析成像之前, 有一个问题 [ 1,2] 对样品所需 辐射剂量大大减少 。另一方面, 因 是我们必须考虑 。我们知道, 当高能量 X 射线 为衍射层析技术和全息技术还不足以提供经微量分 与物质相互作用 时候, 除了一部分X 射线透射和 析而得到样品 元素组成信息, 因此最近几年出现了 被吸收外, 不仅会发生光电反应而产生需要 X 荧 一种新型 成像技术, 即X 射线荧光层析成像技 光外, 同时还会发生相干散射(瑞利散射) 和非相干 [3, 4] 术 。它通过X射线光子激励样品中 原子, 使之 散射(康普顿散射) 。这些散射就形成了在通常X 激发后, 发出荧光辐射,