射频磁控溅射制备TiO2-xNx薄膜及其光催化特性研究.pdfVIP

维普资讯 助 材 料 2005年第3 鲞 射频磁控溅射制备TiO2一zNz薄膜及其光催化特性研究 陈顺利，刁训刚，杨 盟，刘海鹰 ，王天民 (北京航空航天大学 理学院材料物理与化学研究中心，北京 100083) 摘 要 ： 利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备 了透 N 薄膜 。射频溅射功率为 250W ，衬底温度为 300℃， 明TiO 和 TiO一N 薄膜样 品，通过 X 射线衍射 沉积时间为 2h。 (XRD)、原子力显微镜 (AFM)及 UV—Vis分光光度计 TiO 和 TiO一N 薄膜的光催化活性采用其在可 等测试手段表征 了样品的结构、形貌和光催化性能。 见光照射下对罗丹名 B的降解来评估 。将薄膜样品放 结果表 明制备的薄膜为锐钛矿相结构。随着 N ／Ar 入盛有 5ml浓度为 2mg／L的罗丹名 B染料溶液 的 气流比的增大薄膜样品出现新的物相，吸收光谱 向可 50ml烧杯 中，然后在距液面 10cm处用紫外灯 (主波长 见光方向展宽，在 N ／Ar流量 比为 3：100时，制备 的 254nm，8W)和可见灯 (400～450nm，8W)垂直照射。 薄膜在可见光 区具有很好的光催化性能。 隔30min取样用 Lambda9UV—VIS—NIR分光光度计 关键词： 掺氮 TiO 薄膜；光催化；磁控溅射 测量罗丹明B溶液在 554nm处 的吸收光度从而知道 中图分类号 ： 0643 文献标识码 ：A 其浓度的变化 。 文章编号：1001-973l(2005)03—0464—03 用 日本理学 2200型 X射线衍射仪测定薄膜的晶 体结构，薄膜的厚度和表面粗糙度用 DektakIIA型 a 1 引 言 台阶仪测定，表面形貌用 DigitalInstrumentNano— 自从 1972年FujishimaA等n]发现 TiO 单晶电 scopeⅡ原子力显微镜 (仪器 Z方向分辨率为 0．1nm) 极可 以实现光分解水 以来 ，多相光催化反应一直是催 测定，吸收光谱用 HITACHIU一3010分光光度计测 化领域的一个极其重要的研究课题 。TiO 由于在环 量。 境净化方面具有广泛的潜在应用价值而备受青睐[2]。 3 结果与讨论 在大于 TiO2禁带宽度 (锐钛型 TiOz的E ：3．2eV) 的光子照射下，TiO 导带和价带上分别产生电子和空 利用 XRD对所制备 的薄膜进行测试 ，如 图 l所 穴 ，它们扩散到 TiO 表面参与化学反应 ，从而可以降 示。从图 l中我们可 以看出，薄膜都已经结晶，在 N 解大多数有机污染物 。但是 ，由于 TiO 的禁带宽度高 流量比较小(0、1和 3seem)的情况下，从 XRD可知样 达 3．2eV，非常不利于太阳光中对可见光的利用。如 品主要为锐钛矿型 TiO 。XRD结果 同时显示，薄膜 何有效地扩展Tio 的光响应范围从而提高其光催化 中存在织构现象 ，有很强的(101)择优取向。当N 流 效率，已引起广大科研工作者高度重视并做了大量的 量 比较大时(5、7sccm)样品出现了其它晶相 (X对应未 相关工作。但是，很多工作是掺杂阳离子 以提高其光 知晶相)。我们研究比较了N 流量为 7sccm所得样 催化活性[3]，阴离子掺杂在 R．As