电子束蒸发法制备ZrO2薄膜的相变模型分析.pdfVIP

第 20卷第 10期 强 激 光 与 粒 子 束 Vo1．2O。NO．10 2008年 1O月 HIGH POW ER LASER AND PARTICLE BEAMS oct．，2008 文章编号 ： 1OOi4322(2008)10-1724—03 电子束蒸发法制备 ZrO2薄膜的相变模型分析 吴师岗 (山东理工大学 材料科学与工程学院 ，山东 淄博 255049) 摘 要： 用 电子束蒸发方法制备 了纯 的 ZrO 薄膜和含 Y0。摩尔分数为 7 和 l3 的 ZrO 薄膜 ，即 YSZ薄膜 ，通过测定薄膜的损伤阈值来验证温度诱导相变模 型 ；并用 X射线衍射 (XRD)来测定 ZrO。和 YSZ 镀膜材料和薄膜 的结构特征。结果表明：ZrO 镀膜材料和薄膜室温下都表现为单斜相 ，YSZ镀膜材料和薄膜 室温下都 以立方相存在 ；YSZ薄膜 的损伤 阈值远高于 ZrO 薄膜的损伤阈值 ，这是因为添加 Y ()。后 的 YSZ材 料的相比较稳定 ，在蒸发过程中不会发生相变 ，而 ZrO 材料则发生相变 ，产生缺陷，缺陷在激光作用下成为吸 收中心和初始破坏点，导致 ZrO 薄膜的损伤阈值 降低 。 关键词 ： ZrOz薄膜 ； 相变模型 ； 缺 陷； X射线衍射 ； 损伤阈值 中图分类号 ： 0484 文献标志码 ： A 高功率激光系统中所需要的薄膜除了对光学性能有一定的要求外 ，还要求薄膜具有较高的损伤阈值和物 理化学稳定性 。二氧化锆 (ZrO)材料具有很强的抗激光损伤能力和非常宽的光谱透明范围，是光学薄膜 中在 蒸发过程 中主要的高折射率材料之一l】 ，另外 ，ZrO 薄膜具有很好的热稳定性、化学稳定性和机械特性 口]。 但是ZrO。存在多晶转变 ，对材料的性能有很大影响。ZrO。有三种主要晶型 ：即单斜相、四方相和立方相。单 斜相在室温下稳定存在，加热到 1170。C转变为四方相，在 2370℃四方相转变为立方相，立方相能一直稳定到 ZrO 熔点 2680C，在冷却时发生可逆相变 。单斜相和四方相问的可逆转变伴随着 3 ～596／体积分数变化 ， 这会使ZrO 料发生破坏。国内外对ZrO 材料的相变问题研究 已经很多¨4 ，但是对于相变在光学薄膜 中的 研究较少。ZrOz薄膜的制备方法很多 。 ，本文采用电子束蒸发方法来制备 ZrO。薄膜 ，并通过对一系列ZrO 薄膜的结构和损伤阈值的测定来验证温度诱导相变模型的有效性 。 l 相变模型 Zr02材料发生相变时，体积变化引起应力释放 ，会引起靶材料从坩埚中发生喷溅，导致薄膜缺陷增加 。在 电子束蒸发过程 中，从坩埚水冷壁到电子束流 中心(约 2500℃)存在一个温度梯度 ，在电子束流扫过的区域 ， 当温度达到 1170℃时，ZrOz材料发生相变，从而使薄膜表面缺陷密度增加。当激光与薄膜相互作用时缺 陷 会成为吸收中心 ，产生热积累，使薄膜温度迅速升高 ，从而导致薄膜的破坏。另外 ，激光与薄膜相互作用的过程 中，如果薄膜表面温度达到 1170。C，也会使 ZrO。薄膜发生相变 ，加速薄膜的损毁。 2 试验测量 为了验证相变模型，选用纯的和含Y：o。的ZrO。镀膜材料来制备薄膜样品，镀膜材料纯度为99．99％。电 子束热蒸发系统采用光控法控制薄膜的厚度 ，真空系统由机械泵 、扩散泵组成 。基底材料选用 BK7玻璃 ，镀膜 前先将基片放在丙酮中进行超声波清洗 5min，然后用去离子水清洗，烘干。沉积温度为 350。C，恒温 60min， 镀膜过程本底真空为 3．0×10 Pa，充氧至 2．0×10_。Pa。对薄膜样品进行 X射线衍射(XRD)和激光损伤阈 值的测试 。 采用MXP18AHF型X射线衍射仪 ，在CuKa(A一0．15408nm)辐射条件下，测量分析了ZrO 和YSZ镀 膜材料和薄膜的晶型结构变化 。测量均在室温下进行 ，3种镀膜材料含 YO。的摩尔分数分别为 0％，7 和 13 。对 3种镀膜材料和制备的薄膜进行 XRD测试 ，结果如图1和图2所示。 损伤阈值测试按照 ISO标准 11254—1采用 1-on一1方式进行激光损伤实验 。激光系统由Nd：YAG振荡器 和Nd：YAG放大器