多晶Al2O3薄膜的制备及其红外吸收谱研究.pdfVIP

·316 · 材料导报 2008年5月第22卷专辑X 多晶A1203薄膜的制备及其红外吸收谱研究’ 何蕾 1，王倩2 ，许思友 1，贾丽娟1，王磊1 ( 新疆大学物理科学与技术学院，乌鲁木齐830046) 摘要 高能氢离子束溅射金属铝靶 ，沉积在单晶s i 基片上的非晶薄膜是Al 和Al 。03 的混合物 。在空气 中对 其进行900～ 1200 。C的热处理，成功地制备了以不同结晶形式存在的多晶A12 03薄膜 ，讨论了不同退火温度对其结晶 性能、表面形貌及红外吸收光谱的影响，为Al z03薄膜制备与应用提供了 良好借鉴。 关键词 A1203薄膜溅射退火多晶 Pr epar at i on and I nf r a r ed Spect r al Anal si s of Pol cr st al i ne A1203 Thi n Fi l ms HE Lei l ，WANG Qi an2，XU Si oul ，J I A Li i ua nl ，WANG Lei l ( Col l eg e of Ph si cal Sci enc eTe chnol og ，Xi nj i ang Un i v er s i t ，Ur u mq i 83004 6) Abs t r act Af t e r hi gh en e r g Ar +i on beamsput t er s al umi num t ar get 。t he amor phoUS t hi n f l i ms ar e dep osi t ed on Si sub st r at e s ，whi ch ar e a mi xt ur e of Al a nd A120 3．Anne al i n g a t 900～1200 ℃i n t he a ir ，t he t hi n f i l ms wi t h di f f er ent cr s t al l i ne fo r l TI S ar e succes s f ul l pr epa r e d．The i nf l uence of ann eal i ng t e mpe r a t ur e on t he cr s t al l i z at i on ．sur f ace mor - phol og a nd i nf r ar ed ab sor pt i on spe ct r a of A12 03 t hi n f i l m i s di scus sed ．Th e ab ov e anal s i s of f er s 80me r ef er ences f or t he pr epar at i on an d appl i c at i on of A12 03 t hi n f i l ms ． Ke wor ds A1203 t hi n f i l ms ，sput t er i ng ，anneal i ng ，pol er st al l i ne 能、表面形貌及光学性质 的影响，进一步完善 了晶体Al 。03薄 0引言 膜的制备方法。经实验验证，该方法工艺简单，制备的薄膜纯度 Al z 03薄膜具有较高的透射比及化学稳定性、高绝缘性、耐 高、致 密性好、均匀性好，是制 备晶体趾z 03薄膜的 良好方法。 高温、耐腐蚀等优良的物理化学性质[ 1] ，因而在光学、机械、微 电 1 实验 子、剂量测量等领域都有着广 阔的应用前景，