多层AlTi纳米含能桥膜的电爆性能研究.pdfVIP

2015年2月 多层A1／Ti纳米含能桥膜的电爆性能研究 杨 程，等 ·33· doi：10．3969／j．issn．1001-8352．2015．01．008 多层 AI／Ti纳米含能桥膜的电爆性能研究豢 杨 程 胡 艳 沈瑞琪 叶迎华 南京理工大学化工学院(江苏南京，210094) 『摘 要] 利用磁控溅射法制备了不同调制周期的多层AI／Ti纳米含能桥膜 ，并在电容放电激励下对其电爆性能 进行测试 。AIfTi纳米含能桥膜的爆发时间随着 电压的增大而降低 ，而等离子体持续时间随着 电压的增加而增大。 高速摄影仪记录的AL／Ti纳米含能桥膜的电爆过程表明，在相同的激励电压下，Al／Ti纳米含能桥膜的电爆现象明 显比Al桥膜和Ti桥膜剧烈 ，且伴随着高温粒子四处飞溅 ，飞溅高度约有4～6mm，同时A1／Ti纳米含能桥膜的电爆 持续时间均长于Al桥膜和Ti桥膜的电爆持续时间，这与伏安特性曲线得出的结论一致。 [关键词] 纳米含能桥膜；A1／Ti；调制周期 ；电爆性能 [分类号] TJ45；TQ560．7 引言 Al+Ti——AlTi。 (1) 在现代武器弹药系统中。火工品作为重要的组 由式(1)可以求得A1／Ti纳米含能薄膜中，单层 成部分和首发元件具有不可替代的作用．火工品是 Al薄膜和单层 Ti薄膜的比值约为 1比1．由此设计 武器系统中的最敏感部分，其安全性、可靠性直接影 的多层Al／／rri纳米含能薄膜，不同调制周期的参数 响武器系统的安全性和可靠性。随着科学技术的发 如表 1所示 。 展，现代战争所面临的苛刻环境对火工品提出了更 表 1 不 同调制周期的Al／，Ti纳米 高的要求。 含能薄膜的厚度 常用 的多晶硅 ]、Cr[2]等电阻加热式单层桥 Tab．1 BilayerthicknessofAl／／Tinano—energetic 膜，存在着点火输入能量较高而能量转换效率较低 filmswithdifferentmodulations 的缺点。新型的纳米含能薄膜火工品[3-5在一定的 电压激励下，可以引起含能薄膜材料的化学反应 ．桥 膜在电能和化学能共同作用下，可以实现更高能量 的输出，从而提高换能元的点火能力、发火的可靠性 以及火工品的安全性。 目前 ，纳米含能薄膜材料领域 的研究主要集 中 在AIfCuO[_lo_，A1／Ni[ ]，B／TiCzs-z6]等材料 ．A1／Ti 制备的点火桥形状如图1所示 。点火桥形状为 纳米含能材料的研究相对较少 。本文利用磁控溅射 典型的蝶式结构 ，桥长和桥宽相同，均为 1mm，桥膜 法制备了不同调制周期的多层 Al／，Ti纳米含能桥 厚度为2 m。 膜，并在 电容放电激励下对其电爆性能进行了研究 ． 通过高速摄影仪记录了Al／，Ti纳米含能桥膜 的电爆 历程 。 1 试验 1．1 A1／Ti纳米含能薄膜的制备 Al／，Ti在 电加热时能激烈地发生反应，发生燃烧 或爆炸 ，并且放出大量的热量。 图1 点火桥形状 化学反应式如下 ： Fig．1 Imageofbridgefilm {I}收稿 日期：2014-05-25 基金项目：江苏省 自然科学基金青年基金项 目(B；总装预研基金 (9l40A05O70l14BQo加73) 作者简介：杨程 (1987～)，男，博士研究生，从事AI／Ni和AI／Ti等合金化桥膜的研究。E．mail： hen hua@126