沉积与刻蚀的计算机模拟.pdfVIP

沉积和刻蚀的计算机模拟 刘之景 (中国科学技术大学基础物理中心，合肥，230026) 摘要本文介绍了沉积和刻蚀的工业应用，指出在 (几到10～20m 产品加工和设计某种特殊需要的沉积和刻蚀设备中， 体源。因为它们可以增加产品的产额t产生高的刻蚀 沉积和刘蚀的计算机模拟的重要性和必要性，强调了 率和好的均匀性以及尽可能少的器件损伤，等离子体 在等离子体刻蚀反应堆、热喷射系统和等离子体刻蚀 离子有助于化学反应和各向异性。随着芯片上元件尺 及等离子体加强化学蒸气沉积中，计算机模拟所使用 度变小(现在约0．5肿到0．18脚，并向0．10肛m发 的流体模型，蒙特卡洛方法和混舍模型，这些研究的 展)，小元件刻蚀要求在加工室内能精确控制等离子 大多数使用一维或两雏流体模型或蒙特卡洛方法。然 体。故需要发展计算机模拟，从而可以有效地加强设 而，二雏计算现在是普遍使用的方法。 计和优化刻蚀系统和改进加工方j击。对低压放电行 关键词沉积刻蚀热喷射计算机模拟 为，特别是对射频双极反应堆的设计和广泛应用的计 算机模拟研究已有很多年了。这些研究大多数使用一 1引言 维流体模型或蒙特卡洛方法。流体模型常常提供足够 的精确度和获得更多的重要物理内容n]r蒙特卡洛方 在航天航空、汽车、化学、电子和工具工业中，很 法在证明流体模型精确程度和预先给出粒子分布函 多操作都依赖于沉积和刻蚀这两种高技术加工。沉积 数是有价值的工具。文献[23给出了1992年以前的等 是将一种材料精确地镀在另一种材料上，刻蚀是从某 离子体刻蚀加工的计算机模拟的评述。与刻蚀加工的 种材料的衬底上可控地除去该种材料。 有关模型有：系统定标模型，边界层定标模型，成分定 由于对这些加工的物理和化学过程的了解不充 标模型和原子定标模型。在系统定标模型中t用了这 分不完全，于是，工程师只好凭经验和直觉甚至反复 样～组输人参数：反应堆几何，射频功率，气流和压 试验去加工某些特殊要求的产品和设计特殊用途的 力。而电子密度、能量分布、原子基和离子密度等作为 新的沉积和刻蚀设备。这样，往往费工费钱。通过计算 位置和时问的函数被得到。这样一些模型中有四种基 机模拟去做虚拟加工，从而可以提高产品an：r_质量， 本类型：等效电路模型，电子能量为麦克斯韦分布的 省工省钱，降低成本。 解析等离子体模型，中等压力放电的流体模型和低压 大多数计算机模型都没有记录足够多的可靠的 放电的动力学模型。另外，使用等离子体粒子网络模 复杂物理和化学过程，加上运行时间和储存量限制， 型可以求得对称的双极系统中两个电极之间空问电 这就迫使模拟者只能处理这种加工的有限方面或者 场随时间演化和鞘层电场变化。边界层模型考虑了鞘 使用理想化几何形状。不过，随着计算机容量增大和 层的离子散射过程，成分定标模型输入了碰撞离子的 性能改进，随着产品加工要求日益严格而超出加工者 角度和能量数据并模拟了成分演化。在原子定标模型 的经验能力，数值模拟的作用将变得越来越重要和突 中，考虑了离子、原子团和分子与衬底的相互作用。分 出。为了满足工业上对产品可靠性和特殊