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梯度掺杂技术生长绒面结构ZnO-TCO薄膜及其性能的研究.pdfVIP

梯度掺杂技术生长绒面结构ZnO-TCO薄膜及其性能的研究.pdf

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中国可再生能源学会2011年学术年会论文(光伏) 梯度掺杂技术生长绒面结构ZnO-TCO薄膜及其性能研究 闫聪博,陈新亮,张德坤,孙建,魏长春,张晓丹,赵颖,耿新华* 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点 实验室 南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津 300071 E-mail: cxlruzhou@163.com 摘要:为提高MOCVD-ZnO-TCO薄膜的光散射能力和在近红外区域的透过率,本研究小组提 出新的工艺技术—“梯度掺杂”技术,即根据不同掺杂量下ZnO:B薄膜的性能差异,在薄膜 生长的不同时间内采用不同的掺杂量,实现对ZnO:B薄膜表面特性、光电特性的改善。实验 获得的ZnO-TCO薄膜具有高可见光及近红外区域透过率和良好的电学性能(迁移率为 22.9 2 -3 cm/Vs、电阻率为1.2×10 Ωcm)。此种新型技术生长的TCO薄膜有望更好地应用于Si基 薄膜太阳电池上,尤其是a-Si/μc-Si叠层薄膜太阳电池。 关键字:MOCVD;绒面结构;ZnO-TCO薄膜;梯度掺杂技术;薄膜太阳电池 1 引言 意大利Portici研究中心的M.L.Addonizio ZnO透明导电氧化膜(ZnO-TCO)作为直 等人详细研究了BH 掺杂对ZnO薄膜迁移率 2 6 [8] 接宽带隙II-VI族氧化物半导体材料,晶体 的影响 ;瑞士IMT研究小组的S.Y.Myong 结构呈现六方纤锌矿结构,原料丰富、清洁 和J.Steinhause等人对MOCVD技术生长的 [9-10] 无毒,具有好的光电性能和强的抗H等离子 ZnO:B薄膜中电子输运过程进行了研究 。 体还原的能力,是硅基薄膜太阳电池的重要 此外,南开大学课题组详细探讨了衬底温度 组成部分。绒面结构ZnO-TCO薄膜应用于太 和BH 掺杂等参数对ZnO-TCO薄膜微观结构 2 6 [1-4] [11-12] 阳能电池中可形成良好的“陷光效应” , 和光电性能的影响 。根据上述国内外报 从而提高薄膜太阳电池的短路电流和稳定 道的研究结果可得到 LP-MOCVD 技术生长 性。金属有机化学气相淀积技术(简称: ZnO-TCO薄膜的一些重要特性:a)ZnO:B薄 MOCVD技术)具有沉积温度低(<200℃)、 膜的晶粒尺寸随掺杂量增加而减小;b) 薄膜均匀性好、高生长速率、无离子轰击以 ZnO:B薄膜在近红外区域透过率随掺杂量增 及直接生长绒面结构ZnO-TCO薄膜等优点, 加而降低;c)适当的掺杂量下,ZnO:B薄膜 是生长ZnO-TCO薄膜的重要技术之一。 具有良好的结构及电学性能。根据MOCVD生 当前,国内外对 LP-MOCVD 技术生长 长ZnO-TCO薄膜的特点,我们提出“梯度掺 ZnO:B-TCO薄膜及其特性研究已有许多相关 杂”技术生长 ZnO-TCO 薄膜,尝试在 报道,如瑞士IMT研究组的S.Faÿ等人详细

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